[发明专利]一种CdS薄膜化学水浴沉积装置及其制备方法

权利要求书

1.一种CdS薄膜化学水浴沉积装置，其特征在于，包括：

沉积炉，其入口端内壁上设置有第一药剂溢流槽和第二药剂溢流槽，出口端设置有废液收集系统，所述沉积炉的内壁上连接有多组可转动的阻液滚轮，所述沉积炉底部设置有沉积床，所述沉积床上设置有带真空吸附的加热板；

柔性不锈钢衬底，其紧贴在带真空吸附的加热板上，且所述柔性不锈钢衬底的一端连接在沉积炉出口端的收卷机构上，另一端连接在沉积炉入口端的放卷机构上；所述第一药剂溢流槽、第二药剂溢流槽和多组可转动的阻液滚轮均位于柔性不锈钢衬底的上方，且与柔性不锈钢衬底保持一定间距；

溶液储存罐，其包括CdSO₄溶液储存罐，NH₃·H₂O溶液储存罐、DI水溶液储存罐、SC(NH₂)₂溶液储存罐；所述CdSO₄溶液储存罐、NH₃·H₂O溶液储存罐、DI水溶液储存罐的输液管道均分别与第一输液管道连接，且第一输液管道与第一溢流槽相连，所述第一输液管道上设置有螺旋混药器和第一快速加热器；所述SC(NH₂)₂溶液储存罐，通过第二输液管道与第二溢流槽连接；所述第二输液管道上连接有第二快速加热器；所述CdSO₄溶液储存罐，NH₃·H₂O溶液储存罐、DI水溶液储存罐、SC(NH₂)₂溶液储存罐的输液管道上均连接有输出计量泵和高精度流量计。

2.如权利要求1所述的CdS薄膜化学水浴沉积装置，其特征在于，所述沉积炉出口端设置有第一导向辊；沉积炉入口端设置有第二导向辊；所述沉积炉沿柔性不锈钢衬底移动方向略微倾斜放置。

3.如权利要求1所述的CdS薄膜化学水浴沉积装置，其特征在于，所述第一药剂溢流槽和第二药剂溢流槽的形状被设置为相同大小的中空直三棱柱，所述第一药剂溢流槽的直角面I和第二药剂溢流槽的直角面II与沉积炉底面平行，所述第一药剂溢流槽直角面III上设置有第一药剂溢流口，第二药剂溢流槽的直角面IV上设置有第二药剂溢流口，第一药剂溢流口上连接有第一引流板，第二药剂溢流口上连接有第二引流板。

4.如权利要求1所述的CdS薄膜化学水浴沉积装置，其特征在于，所述阻液滚轮可转动连接方式为通过轴承连接在沉积炉中的固定轴上，且阻液滚轮与反应液表面相接触，与柔性不锈钢衬底保持一定间距。

5.如权利要求4所述的CdS薄膜化学水浴沉积装置，其特征在于，所述阻液滚轮为表面具有网状多孔结构的聚四氟乙烯阻液滚轮、聚醚砜树脂阻液滚轮、聚丙烯阻液滚和聚偏氟乙烯阻液滚轮，所述网状多孔结构为规则形状和不规则形状混合组成。

6.如权利要求5所述的CdS薄膜化学水浴沉积装置，其特征在于，所述阻液滚轮被设置成相邻两组中的阻液滚轮交错分布。