[发明专利]二硫化钼量子点自发还原高锰酸钾制备双模态成像纳米复合物的方法有效
| 申请号： | 201910500210.X | 申请日： | 2019-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN110201193B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 李菁菁;侯平甫;徐凯 | 申请（专利权）人： | 徐州医科大学 |
| 主分类号： | A61K49/06 | 分类号： | A61K49/06;A61K49/00 |
| 代理公司： | 徐州先卓知识产权代理事务所(普通合伙) 32555 | 代理人： | 陈俊杰 |
| 地址： | 221000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二硫化钼 量子 自发 还原 高锰酸钾 制备 双模 成像 纳米 复合物 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种二硫化钼量子点自发还原高锰酸钾制备双模态成像纳米复合物的方法，其特征在于，包括以下步骤：
a. 在二硫化钼量子点溶液中加入高锰酸钾溶液，混匀后在4 ℃ 环境中反应24h；
二硫化钼量子点的加入量为112.3 μL，高锰酸钾的加入量为20-175 μL 2mM；
b. 步骤a中反应后的溶液超滤除去未反应的原料得MnO2/MoS2纳米复合物。
2.根据权利要求1所述的一种二硫化钼量子点自发还原高锰酸钾制备双模态成像纳米复合物的方法，其特征在于：所述步骤b中超滤管的截留分子量为1kDa。
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