[发明专利]一种常温一步制备卤化氧铋纳米片的方法在审
| 申请号： | 201910501528.X | 申请日： | 2019-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN110227503A | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | 刘娟娟;邹世辉 | 申请（专利权）人： | 杭州电子科技大学 |
| 主分类号： | B01J27/06 | 分类号： | B01J27/06;C02F1/30;C01G29/00;C02F101/38 |
| 代理公司： | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人： | 杨舟涛 |
| 地址： | 310018 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 卤化氧铋 纳米片 一步制备 卤化 高温煅烧过程 光催化材料 光催化活性 可溶性铋盐 一步法制备 操作工艺 催化应用 碱类物质 生态环境 湿化学法 制备过程 对设备 副反应 高温水 卤化钠 模板剂 溶剂热 钾盐 可控 催化剂 制备 潜能 修复 治理 | ||
1.一种常温一步制备卤化氧铋纳米片的方法，其特征在于，该方法步骤如下：
步骤(1)、常温20～35℃下，将可溶性铋盐溶解于溶剂a中，使铋元素的浓度为80～400mM，超声5～10min至可溶性铋盐完全溶解，得透明溶液A；
步骤(2)、常温20～35℃下，将可溶性卤化盐溶解于溶剂b中，使卤化盐的浓度为80～400mM，超声5～10min至可溶性卤化盐KX或NaX完全溶解，得透明溶液B；
步骤(3)、常温20～35℃下，在搅拌条件下，将B溶液逐滴滴加到A溶液中，形成悬浊液C；
步骤(4)、将上述混合物C搅拌1h后，离心，依次用去离子水和无水乙醇洗涤，各洗涤3～4次后，将所得产物置于65～80℃烘箱中18～24h，得到干燥的固体粉末。
2.如权利要求1所述的一种常温一步制备卤化氧铋纳米片的方法，其特征在于：步骤(1)所述的可溶性铋盐为五水合硝酸铋、硫酸铋和氯化铋中的一种或多种的任意比例混合物。
3.如权利要求1所述的一种常温一步制备卤化氧铋纳米片的方法，其特征在于步骤(1)所述的溶剂a为去离子水和/或乙二醇。
4.如权利要求1所述一种常温一步制备卤化氧铋纳米片的方法，其特征在于步骤(2)所述的可溶性卤化盐为KX或NaX中的一种或多种的任意比例混合物，X＝Cl、Br、I。
5.如权利要求1所述的一种常温一步制备卤化氧铋纳米片的方法，其特征在于步骤(2)所述的溶剂b为去离子水和/或乙二醇。
6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(3)，其中，悬浊液C中X元素与Bi元素的原子比为1：1，X＝Cl、Br、I。
7.如权利要求1-7所述的一种常温一步制备卤化氧铋纳米片的方法，其特征在于：该方法制备的BiOX，纳米片光催化材料在可见光源或太阳光下催化降解有机污染物的应用，X＝Cl、Br、I。
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