[发明专利]一种用于水体除砷的四氧化三钴纳米片、制备方法及应用

权利要求书

1.一种四氧化三钴纳米片在水体除砷中的应用，其特征在于：所述四氧化三钴纳米片的制备方法包括以下步骤：(1)以摩尔浓度0.03-0.05M计，将CoCl₂.6(H₂O)溶解于超纯水中，形成粉红色溶液；(2)在粉红色溶液中缓慢滴加氨水至溶液pH为9.0-9.5，得到墨绿色溶液；(3)将墨绿色溶液调温至75-85℃并在持续搅拌下，按体积比计，将墨绿色溶液1/10体积的过氧化氢溶液缓慢滴加到上述溶液中进行反应并冷却至室温，得到悬浮液；(4)悬浮液经离心分离，所得沉淀物经洗涤干燥得到黑色粉末，制成四氧化三钴纳米片。

2.根据权利要求1所述的一种四氧化三钴纳米片在水体除砷中的应用，其特征在于：所述的离心分离，为在8000-11000rpm转速下离心3-10分钟。

3.根据权利要求1所述的一种四氧化三钴纳米片在水体除砷中的应用，其特征在于：所述的过氧化氢溶液，其质量百分比浓度为30％。

4.根据权利要求1所述的一种四氧化三钴纳米片在水体除砷中的应用，其特征在于：所述的洗涤干燥为，用超纯水和乙醇对所得沉淀物进行交叉洗涤数次至pH中性，在60℃真空干燥箱中干燥20-30h。

5.根据权利要求1所述的一种四氧化三钴纳米片在水体除砷中的应用，其特征在于：所述的水体除砷，具体操作为：用酸碱调节含砷水体的pH为中性，再将四氧化三钴纳米片加入到含砷水体中，充分混和20-30h，经滤膜滤除四氧化三钴纳米片，得到除砷后的澄清水体。

6.根据权利要求5所述的一种四氧化三钴纳米片在水体除砷中的应用，其特征在于：所述的滤膜，选用规格为孔径0.22μm；所述的四氧化三钴纳米片，对As(III)和As(V)的最大吸附容量分别为56.43mg/g和33.58mg/g。