[发明专利]一种可见红外宽频带光吸收材料及其制备方法

权利要求书

1.一种可见红外宽频带光吸收材料，其特征是：该可见红外宽频带光吸收材料是铜的薄膜。

2.按权利要求1所述的可见红外宽频带光吸收材料，其特征是：所述铜的薄膜是以多孔氧化铝阵列膜板为模板将铜经磁控溅射生成的铜多孔纳米薄膜。

3.按权利要求1或2所述的可见红外宽频带光吸收材料，其特征是：所述铜的薄膜的厚度为300nm～15μm。

4.一种可见红外宽频带光吸收材料的制备方法，包括：

a、制备多孔氧化铝阵列模板；

其特征是还包括下列步骤：

b、制备多孔氧化铝阵列模板附着铜膜：

将多孔氧化铝阵列模板清洗干净后干燥，然后将干燥后的多孔氧化铝阵列模板固定放置在磁控溅射仪器的真空腔体中进行抽真空，至压力在2 x 10^-4 Pa以下后，将铜进行磁控溅射，控制溅射功率为30W～150W、溅射速率为0.1nm/s～2nm/s、溅射时间为10～360min，即制得多孔氧化铝阵列模板附着铜膜；

c、制备铜多孔纳米薄膜：

将制得的多孔氧化铝阵列模板附着铜膜用化学腐蚀法进行分离；步骤是：配制浓度为0.2mol/L～0.8mol/L的氢氧化钠水溶液作为氢氧化钠腐蚀液，将制得的氧化铝阵列模板附着铜膜浸泡入氢氧化钠腐蚀液中，在室温下浸泡10min～360min，使多孔氧化铝阵列模板附着铜膜中的铜膜部分与多孔氧化铝阵列模板部分分离开来，得到的单独的铜膜，之后再用水清洗掉腐蚀液，并将铜膜表面用氮气吹干，即制得铜多孔纳米薄膜。

5.按权利要求4所述可见红外宽频带光吸收材料的制备方法，其特征是：步骤b中所述将吹干的多孔氧化铝阵列模板固定放置在磁控溅射仪器的真空腔体中进行抽真空，至压力在2 x 10^-4 Pa以下后，将铜进行磁控溅射，是：将吹干的多孔氧化铝阵列模板固定放置在磁控溅射仪器的真空腔体中进行抽真空，至压力在2 x 10^-4 Pa以下后，通入氩气，再将铜进行磁控溅射。

6.按权利要求4或5所述可见红外宽频带光吸收材料的制备方法，其特征是：步骤b中所述将多孔氧化铝阵列模板清洗干净后干燥，是：在常温常压下，将多孔氧化铝阵列模板在水中浸泡2～4 h清洗掉表面污垢；之后再将多孔氧化铝阵列模板浸泡到丙酮中2～4 h清除表面的油脂等；之后再将多孔氧化铝阵列模板浸泡到乙醇中2～4 h做最后清洗；之后用氮气将多孔氧化铝阵列模板吹干。

7.按权利要求4或5所述可见红外宽频带光吸收材料的制备方法，其特征是：步骤b和步骤c中所述水是超纯水、蒸馏水或去离子水。

8.按权利要求6所述可见红外宽频带光吸收材料的制备方法，其特征是：步骤b和步骤c中所述水是超纯水、蒸馏水或去离子水。