[发明专利]一种用于消除视场角影响的色斑修复方法及系统在审
申请号: | 201910508056.0 | 申请日: | 2019-06-12 |
公开(公告)号: | CN110297339A | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 轩慎振;郑增强;刘璐宁;唐斐 | 申请(专利权)人: | 武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G09G3/36 |
代理公司: | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 赵伟 |
地址: | 430205 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 视场角 色斑 显示屏 显示区域 减小 拼接 修复 图像画面 相机镜头 入射光 光轴 采集 图像 相机拍摄图像 发光特性 局部区域 缺陷补偿 烧录 生产工艺 内存 相机 | ||
本发明公开了一种用于消除视场角影响的色斑修复方法及系统,该方法包括以下步骤:将待修复的显示屏均分为若干个显示区域,控制相机分别采集每个所述显示区域的图像画面,以减小相机镜头入射光和光轴的夹角;将若干显示区域的图像画面拼接形成一幅拼接图像并计算所述拼接图像的Mura补偿值;将所述Mura补偿值烧录到所述显示屏的内存中,完成色斑缺陷补偿;本发明通过采集显示屏局部区域的方法来减小相机镜头入射光和光轴的夹角,从而有效减小视场角对相机拍摄图像的影响,使得视场角对色斑修复的影响可以忽略不计,可以适用于不同发光特性、生产工艺的显示屏,通用性更强。
技术领域
本发明属于液晶面板显示技术领域,更具体地,涉及一种用于消除视场角影响的色斑修复方法及系统。
背景技术
平板显示器的生产过程中不可避免的会出现色斑缺陷(Mura),DeMura设备是一款集成高精度专业信号发生器、标准光学测量仪器、自动压接和控制调节软件于一体的色斑缺陷修复系统。在色斑修复系统中,第一个环节是通过CCD拍摄显示屏的亮度,能否准确的拍摄出显示屏的亮度将直接影响最终的修复效果。由于显示屏具有侧视漏光的发光特性,故从不同角度拍摄显示屏会呈现出不同的亮度,在显示屏低亮度时尤为明显,这称之为视场角的影响。实践表明,在色斑修复时,视场角对CCD拍摄的图像质量影响很大,从而直接影响了最终的色斑修复效果。减小或消除视场角的影响,成为了色斑修复时非常重要并急待解决的问题。
由于视场角对CCD拍摄的图像质量影响很大,目前为了消除视场角的影响已经有以下方法被提出:一是建立视场角影响的数学模型,此方法原理为使用CCD拍摄显示屏图像,得到受视场角影响的原始图像,运用数学方法计算出有视场角影响的数学模型,用于后续的校正;这种数学模型对于特定的显示屏有一定效果,但对于不同的环境和不同的显示特性的屏幕通用性较差;二是调整CCD和屏幕之间的距离,此方法通过增大CCD相机和显示屏之间的距离,减小了相机镜头入射光和光轴的夹角θ,从而减小了视场角的影响;但这种方法受限于工厂的空间布局,不能根据需要及时调整,对于实际生产有一定局限性。三是对CCD拍摄图像乘以衰减系数,此方法首先通过理论推导计算出不同视场角位置的显示屏亮度衰减系数,并用衰减系数进行还原;这种方法对于发光特性一致的屏幕有一定的改善,但不同屏幕的生产工艺和Mura不同,采用衰减系数进行补偿的方法通用性较差,实际生产中精度较低。
发明内容
针对现有技术的至少一个缺陷或改进需求,本发明提供了一种用于消除视场角影响的色斑修复方法及系统,其目的在于解决现有的修复方法存在的通用性差,无法适用于不同显示屏幕的色斑修复的问题。
为实现上述目的,按照本发明的一个方面,提供了一种用于消除视场角影响的色斑修复方法,包括以下步骤:
S1:将待修复的显示屏均分为若干个显示区域,控制相机分别采集每个所述显示区域的图像画面;相比于相机采集整个显示屏图像的方式,这种采集局部区域的方法可以减小相机镜头入射光和光轴的夹角,在很大程度上减小了视场角的影响,使得视场角对色斑修复的影响可以忽略不计;
S2:将若干显示区域的图像画面拼接形成一幅拼接图像并计算所述拼接图像的Mura补偿值;
S3:将所述Mura补偿值烧录到所述显示屏的Flash IC中,完成色斑缺陷补偿。
优选的,上述色斑修复方法中,所述相机的数量与显示区域的数量相等,一个相机正对一个显示区域的中心位置且各相机处于同一平面上;确保各相机采集的图像画面尺寸一致,便于后续的图像拼接;
该方法中还包括以下步骤:根据不同相机的位置分布建立相机位置矩阵,获取各相机采集的图像画面后根据所述相机位置矩阵对若干张图像画面进行拼接。
优选的,上述色斑修复方法中,所述相机的数量为一个;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司,未经武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910508056.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。