[发明专利]掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法在审
申请号: | 201910511244.9 | 申请日: | 2019-06-13 |
公开(公告)号: | CN110172666A | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
发明(设计)人: | 丁渭渭;徐鹏;嵇凤丽 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜板 安装框体 像素生成 掩膜图像 有机发光材料 方向间隔 固定设置 像素单元 组件包括 形心 掩膜 预设 蒸镀 制作 偏离 | ||
本发明涉及显示技术领域,提出一种掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法,该掩膜板组件包括:安装框体和多个掩膜板,多个掩膜板固定设置于所述安装框体上,且沿第一方向间隔分布;其中,多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像,所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。本公开提供的掩膜板组件可以实现像素单元中有机发光材料的精确蒸镀。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode)屏因其具有对比度高、能够自发光及柔性显示等优点而得到了越来越广泛的应用。目前,真空热蒸镀是制备OLED器件的一种行之有效的方法,它将加热蒸发的材料分子穿过FMM(Fine Metal Mask,高精度金属掩膜板)的开口沉积到背板的相应位置处。
相关技术中,一般通过MFA(Mask Frame Assembly,掩膜板组件)实现像素单元的形成。掩膜板组件一般包括沿一方向间隔分布的多个掩膜板,多个掩膜板的开口与阵列基板上像素开口精确对位。从而可以保证将有机发光材料精确蒸镀到像素开口位置。
然而,在实际蒸镀过程中,阵列基板一般位于掩膜板组件的上方,阵列基板在其重力作用下会出现下垂现象,从而使得掩膜板也随之下垂,且掩膜板与阵列基板的下垂量不同。同时由于蒸镀腔室温度较高,在热应力作用下蒸镀组件也会膨胀形变。最终造成通过上述掩膜板组件形成的有机发光材料无法精确蒸镀到阵列基板上像素的开口位置,从而造成屏幕混色。
需要说明的是,在上述背景技术部分发明的信息仅用于加强对本发明的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本发明的目的在于提供一种掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法,该掩膜板组件能够实现像素单元的精确蒸镀。
本发明的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本发明的实践而习得。
根据本公开的一方面,提供一种掩膜板组件,其该掩膜板组件包括安装框体和多个掩膜板,多个掩膜板固定设置于所述安装框体上,且沿第一方向间隔分布;其中,多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像,所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。
在本公开的一种示例性实施例中,所述第一方向包括相反的第一侧方向和第二侧方向;位于所述掩膜图像形心第一侧方向的所述掩膜板沿所述第二侧方向偏离其预设的掩膜位置;位于所述掩膜图像形心第二侧方向的所述掩膜板沿所述第一侧方向偏离其预设的掩膜位置。
在本公开的一种示例性实施例中,位于所述第一侧方向外侧的所述掩膜板的偏离距离大于位于所述第一侧方向内侧的所述掩膜板的偏离距离;
位于所述第二侧方向外侧的所述掩膜板的偏离距离大于位于所述第二侧方向内侧的所述掩膜板的偏离距离。
在本公开的一种示例性实施例中,该掩膜板组件还包括多个第一支撑条,多个第一支撑条固定设置于所述安装框体上,沿所述第一方向间隔分布,且覆盖于相邻所述掩膜板之间间隙上。
在本公开的一种示例性实施例中,还包括多个第二支撑条,多个第二支撑条固定设置于所述安装框体上,且沿第二方向间隔分布,用于支撑所述掩膜板。
根据本公开的一方面,提供一种掩膜板组件制作方法,该方法包括:
提供一安装框体;
将多个掩膜板固定设置于所述安装框体上,且沿第一方向间隔分布;
其中,多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像,所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。
在本公开的一种示例性实施例中,将多个掩膜板固定设置于所述安装框体上,包括:
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