[发明专利]一种自润滑抛光硅胶材料及其制备方法和产品

说明书

本发明涉及一种自润滑抛光硅胶材料及其制备方法和产品，按重量份计，包括硅胶100份、氧化铈粉10‑40份、金刚石粉5‑20份、氧化铝粉5‑20份、亮光剂0.3‑1.5份、硫化剂1‑2份、色素0.5份，自润滑抛光硅胶材料在作为抛光耗材时，不需要添加研磨剂或抛光剂，污染小，磨形速度快，通用性好，耐磨性好。

技术领域

本发明涉及一种自润滑抛光硅胶材料及其制备方法和产品，属于硅胶材料及抛光用品领域。

背景技术

抛光用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。目前国内制造业应用最广泛的抛光工艺是一种机械化学抛光工艺，即对用抛光头搭配抛光液对产品进行抛光加工，抛光液在产品和抛光头之间主要是起润滑作用，但是抛光液是一种一次性用品，含有各种有害化学成分，污染大；而且对于不同材质的产品，所对应的的抛光液和抛光头也不尽相同，通用性低，由此造成抛光液和抛光头的产品价格高；由于抛光头的耐磨性差，所以抛光头在实际生产中是一种易耗品。

因此现在市场上急需一种能够减少使用或不使用抛光液的、通用性强、寿命长的抛光材料。

发明内容

本发明为了解决上述问题而提供的一种自润滑抛光硅胶材料，按重量份计，包括硅胶100份、氧化铈粉10-40份、金刚石粉5-20 份、氧化铝粉5-20份、亮光剂0.3-1.5份、硫化剂1-2份、色素0.5 份。

可选的，所述硅胶的邵氏硬度在10-80度之间。

可选的，所述氧化铈粉的粒径在1.0-6.0微米之间。

可选的，所述金刚石的粉粒径在1.0-9.0微米之间。

可选的，所述氧化铝粉的粒度在100-10000微米之间。

本发明所涉及自润滑抛光硅胶材料的制备方法，包括以下步骤：

步骤一、按配重比例，按先后顺序依次向热搅拌机内，加入硅胶、氧化铈粉、金刚石粉、氧化铝粉、亮光剂，每加入一种物质，需均速地搅拌10-30分钟，温度保持在100-150度之间，直至各物质充分混合，混合物呈粘性糊状。

步骤二、将步骤一得到产物加入到热压机的热压模具中，热压加工3-10分钟，热压的温度为150-220摄氏度。

另外的，本发明还提供一种产品，所述产品为经所述的自润滑抛光硅胶材料成型后所生产的产品。

相较于现有技术，本发明的自润滑抛光硅胶材料在作为抛光耗材时，不需要添加研磨剂或抛光剂，磨形速度快，通用性好，耐磨性好。

具体实施方式

按重量份计，包括硅胶100份、氧化铈粉10-40份、金刚石粉 5-20份、氧化铝粉5-20份、亮光剂0.3-1.5份、硫化剂1-2份、色素0.5份。

硅胶是一种高活性吸附材料，化学性质稳定，而且邵氏硬度在10-80度之间的硅胶硬度适中，能够自动恢复形状，使用硅胶作为抛光材料基质，能够使抛光材料具有良好的弹性。

粒径在1.0-6.0微米之间的氧化铈粉，具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，因为它能用化学分解和机械摩擦二种形式同时抛光。

粒径在1.0-9.0微米之间的金刚石粉，具有良好的韧性，在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤物件表面，广泛用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和抛光。

粒度在100-10000微米之间的氧化铝粉，具有良好的耐磨性，提升本发明产品的使用寿命。

硫化剂能够使硅胶分子链起交联反应，使线形分子形成立体网状结构，可塑性降低。

本发明所涉及自润滑抛光硅胶材料的制备方法，包括以下步骤：