[发明专利]信息处理装置、判断方法、程序、光刻系统和制造方法有效
申请号: | 201910514039.8 | 申请日: | 2019-06-14 |
公开(公告)号: | CN110609450B | 公开(公告)日: | 2022-08-02 |
发明(设计)人: | 宝田洋佑;三浦勇介 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人: | 迟军 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信息处理 装置 判断 方法 程序 光刻 系统 制造 | ||
1.一种信息处理装置,其包括:
第一获取单元,其被构造为,获取指示通过应用用于预先确定要在用于形成图案的光刻装置中执行的光刻处理的条件的第一处理条件来执行的光刻处理结果的第一收集数据和指示通过应用至少部分地不同于第一处理条件的第二处理条件来执行的光刻处理结果的第二收集数据;
累积单元,其被构造为,获取基于第一收集数据的统计值计算的第一容许范围和获取基于第二收集数据的统计值计算的不同于第一容许范围的第二容许范围;以及
判断单元,其被构造为,在收集数据不在第一容许范围内的情况下,判断指示通过应用第一处理条件执行的光刻处理结果的收集数据中发生了异常,以及在收集数据不在第二容许范围内的情况下,判断指示通过应用第二处理条件执行的光刻处理结果的收集数据中发生了异常。
2.根据权利要求1所述的信息处理装置,所述信息处理装置还包括确定单元,其被构造成在判断单元判断收集数据中发生了异常的情况下,确定用于维护光刻装置的维护方法。
3.根据权利要求2所述的信息处理装置,其中,
所述确定单元在判断单元判断出收集数据中发生了异常的情况下,基于如下确定维护方法:
异常的类型,
应用于当对收集数据进行收集时执行的光刻处理的处理条件,
为维护光刻装置而执行的维护方法,以及
与维护方法相对应的执行结果。
4.根据权利要求2所述的信息处理装置,其中,
确定单元在判断单元判断出收集数据中发生了异常的情况下,基于如下确定维护方法:
在收集数据中发生的异常的因素,以及
为维护光刻装置而执行的与异常的因素相对应的维护方法。
5.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,指示光刻处理结果的收集数据包括同步精度数据,该同步精度数据指示在光刻装置中包括的多个载台的相对位置的误差。
6.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,指示光刻处理结果的收集数据包括照度数据,该照度数据指示从在光刻装置中包括的光学系统发出的光的照度。
7.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,指示光刻处理结果的收集数据包括载台偏差数据,该载台偏差数据指示在控制光刻装置中包括的载台时发生的目标位置与测量位置之间的偏差。
8.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,指示光刻处理结果的收集数据包括对准测量数据,该对准测量数据与通过捕获在形成有图案的基板上形成的标记的图像而获取的图像信号有关。
9.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,基于分类的收集数据的平均值和标准偏差、或指示光刻处理结果的收集数据的中值和标准偏差来计算第一容许范围和第二容许范围。
10.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,通过使用以下中的任意一者来获得第一容许范围和第二容许范围:
与指示光刻处理结果的收集数据的平均值的差,
与指示光刻处理结果的收集数据的中值的差,
相对于平均值的比率,以及
相对于中值的比率。
11.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,第一容许范围和第二容许范围包括多个容许范围,并且判断分类为逐步级别的异常。
12.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,第一处理条件和第二处理条件包括以下中的至少一者:
输送条件,
定位条件,
测量条件,
曝光条件,以及
设定条件。
13.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,第一获取单元从多个光刻装置中获取指示光刻处理结果的第一收集数据和第二收集数据,且累积单元针对各个光刻装置获取第一容许范围和第二容许范围。
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