[发明专利]一种用于光刻设备的气液分离装置

权利要求书

1.一种用于光刻设备的气液分离装置，包括上端盖、上端盖盖板、微孔膜组件、下端盖、下端盖盖板、外壳；其特征在于：

所述的上端盖与下端盖分别设置在外壳的两侧，与外壳构成气体缓冲腔；一个或多个微孔膜组件设置在气体缓冲腔内，微孔膜组件的两端分别与上端盖和下端盖同轴过盈配合安装；上端盖盖板设置在上端盖外侧，与上端盖形成液体缓冲腔；下端盖盖板设置在下端盖外侧，与下端盖形成气液缓冲腔；

所述的下端盖盖板上设置流体入口，作为气液缓冲腔入液口；在上端盖盖板上设置流体出口，作为液体缓冲腔排液口；来自浸没控制单元的气液两相流经所述流体入口流入气液分离装置，经所述流体出口流出气液分离装置；下端盖上开有一个或多个入液通孔，一个入液通孔连通一个微孔膜组件入液口与气液缓冲腔；上端盖上开有一个或多个出液通孔，一个出液通孔连通一个微孔膜组件出液口与液体缓冲腔；入液通孔个数、出液通孔个数、微孔膜组件个数相同；

所述的外壳或上端盖或下端盖上设置有抽气口，抽气口与真空泵相连接，使气体缓冲腔的压强小于大气压；

所述微孔膜组件包括支撑结构和微孔膜，支撑结构为轴向贯通结构，支撑结构壁面上具有连通结构内外部空间的开口，两端分别作为微孔膜组件入液口与微孔膜组件出液口；在支撑结构壁面内侧或外侧覆盖微孔膜，微孔膜遮蔽支撑结构壁面上的所有开口，微孔膜开口的线度小于10微米。

2.根据权利要求1所述的一种用于光刻设备的气液分离装置，其特征在于：所述微孔膜开口的线度小于1微米。

3.根据权利要求1或2所述的一种用于光刻设备的气液分离装置，其特征在于：所述的微孔膜的表面与液体的接触角大于90°。

4.根据权利要求3所述的一种用于光刻设备的气液分离装置，其特征在于：所述微孔膜的材料为聚四氟乙烯。

5.根据权利要求1所述的一种用于光刻设备的气液分离装置，其特征在于：所述的微孔膜以多层重叠的方式覆盖支撑结构。

6.根据权利要求1所述的一种用于光刻设备的气液分离装置，其特征在于：对所述的微孔膜加热使其粘附在支撑结构上。

7.根据权利要求1所述的一种用于光刻设备的气液分离装置，其特征在于：所述的微孔膜组件至少具备两个，并列配置。

8.根据权利要求1所述的一种用于光刻设备的气液分离装置，其特征在于：所述支撑结构为侧壁有通孔的管道。

9.根据权利要求1或7所述的一种用于光刻设备的气液分离装置，其特征在于：所述支撑结构是轴向贯通的网状结构。

10.根据权利要求1所述的一种用于光刻设备的气液分离装置，其特征在于：所述上端盖上设置有压力传感器，用于测量气体缓冲腔内气体压强。