[发明专利]一种用于制备纳米材料的气相反应炉

权利要求书

1.一种用于制备纳米材料的气相反应炉，其组成包括：炉体，所述炉体安装在炉体支架上，其特征在于：还包括供气系统、升降系统，所述供气系统设置在所述炉体的外侧并通过气管与所述炉体连通，所述炉体内设有上部导热板、导流均热板、炉腔、两个混气腔，所述炉体下部设有开口，所述上部导热板和两个所述导流均热板包裹在所述炉腔外部，所述混气腔位于所述导流均热板的外侧；在所述炉体下方还设有升降系统，所述升降系统上部设有升降台、炉门、下部导热板，所述炉门与所述炉体下部开口采用气密性结构密封。

2.根据权利要求1所述的用于制备纳米材料的气相反应炉，其特征在于：两套所述供气系统通过气管分别与两个混气腔连通，在所述炉体的外侧还分别设有左侧排气孔和右侧排气孔，所述左侧排气孔和所述右侧排气孔也与所述混气腔连通。

3.根据权利要求1所述的用于制备纳米材料的气相反应炉，其特征在于：在所述炉体内还设有若干加热装置，所述加热装置位于所述炉腔内壁的外侧，其下部穿过所述导流均热板插入到所述炉腔的中部。

4.根据权利要求1所述的用于制备纳米材料的气相反应炉，其特征在于：所述导流均热板为中间设有凸起导流的多孔气体通过板。