[发明专利]一种基于电流密度展开的磁共振线圈去耦合设计方法在审
申请号: | 201910520026.1 | 申请日: | 2019-06-17 |
公开(公告)号: | CN112100794A | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 平学伟;王红杰;殷兴辉;李臣明;李黎 | 申请(专利权)人: | 河海大学 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20;H01F6/06;G06F111/04 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 孟红梅 |
地址: | 211100 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 电流密度 展开 磁共振 线圈 耦合 设计 方法 | ||
1.一种基于电流密度展开的磁共振线圈去耦合设计方法,其特征在于,所述的设计方法采用基于电流密度展开的方法,在线圈布线区域内构造一组电流密度基函数,并且将电流密度的表达式表示为基函数与其系数的组合:
式中Ji(r),i=1,2...N,为构造的电流密度基函数,x={x1,x2,...xN}为待求系数,N为基函数个数,r为布线区域内任意一点处的坐标矢量;
已知已设计好的M个线圈的结构信息,以及待设计线圈的相关参数及设计要求,在优化线圈结构时,构建的优化问题中包含以下约束条件:
上式中,μ0为真空磁导率,I0为待设计线圈内的电流幅值,Ij为第j个已知线圈内的电流幅值,r为布线区域内任一点处的坐标矢量,r′j为第j个已知线圈内任一点处的坐标矢量,J(r)为待设计线圈内的电流密度,Jj(r′j)为第j个已知线圈内的电流密度,V为待设计线圈的布线区域,dv为布线区域内的体积分微元,Vj为第j个已知线圈所在的区域,dvj为第j个已知线圈所在区域内的体积分微元,Lj为待设计线圈与第j个已知线圈之间的互感,εj为待设计线圈与第j个已知线圈之间所允许的最大互感,M为正整数。
2.根据权利要求1所述的基于电流密度展开的磁共振线圈去耦合设计方法,其特征在于,已知线圈为线结构,待设计线圈分布区域为二维面结构,互感约束条件的表达式如下:
上式中,S与ds为待设计线圈所在的二维布线区域及该区域内的面积分微元,Lj与dl为第j个已知线圈所在的曲线以及该曲线内的矢量线积分微元。
3.根据权利要求1所述的基于电流密度展开的磁共振线圈去耦合设计方法,其特征在于,采用内点法对所构建的优化问题进行求解。
4.根据权利要求1所述的基于电流密度展开的磁共振线圈去耦合设计方法,其特征在于,所设计线圈为梯度线圈或匀场线圈,待优化的目标函数表达式为:
式中,K为采样点个数,rk为第k个采样点处的坐标矢量,w1(rk),w2为权重系数,Bz,des(rk)为采样点rk处期望的磁感应强度z方向分量,Bz(rk)为待设计线圈内的电流密度在采样点rk处产生的磁感应强度值,W为待设计线圈的储能。
5.根据权利要求4所述的基于电流密度展开的磁共振线圈去耦合设计方法,其特征在于,待设计线圈的储能的表达式为:
式中,r与r'为积分区域内任意两点处的坐标矢量,J(r)与J(r')为r与r'处的电流密度,S为待设计线圈所在的面,ds与ds'均为S内的面积分微元。
6.根据权利要求4所述的基于电流密度展开的磁共振线圈去耦合设计方法,其特征在于,线圈之间的互感最大值εj,j=1,2....M不超过1μH。
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