[发明专利]一种光催化降解水体中抗生素的方法

权利要求书

1.一种光催化降解水体中抗生素的方法，其特征在于，包括：将光催化剂添加到含有抗生素的待处理水样中；所述含有抗生素的待处理水样为盐酸金霉素废水；所述光催化剂为一价铜离子修饰的氮化碳骨架材料，且为多孔结构；

所述一价铜离子修饰的氮化碳骨架材料为氧化亚铜负载和一价铜离子掺杂的氮化碳骨架；

所述一价铜离子修饰的氮化碳骨架材料的俄歇峰包括571.3eV；

所述光催化剂的制备方法包括如下步骤：将二水合氯化铜，三聚氰胺与硫氰酸铵混合，得到混合物前驱体；将所述混合物前驱体进行煅烧，得到一价铜离子修饰的氮化碳骨架光催化剂；

所述二水合氯化铜与三聚氰胺的质量比为20%，硫氰酸铵与三聚氰胺的质量比为2.5%~22.5%。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述一价铜离子修饰的氮化碳骨架材料的比表面积为57.4 m² g⁻¹。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述一价铜离子修饰的氮化碳骨架材料中的一价铜离子的存在形式为与有机氮原子键合的掺杂型一价铜离子与晶体氧化亚铜。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述一价铜离子修饰的氮化碳骨架材料中的一价铜离子的存在形式为与有机氮原子键合的掺杂型一价铜离子与晶体氧化亚铜。

5.根据权利要求1-4任一所述的方法，其特征在于，还包括：将添加了光催化剂的待处理水样在暗处搅拌达到吸附平衡后在模拟日光条件下进行光催化反应。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述一价铜离子修饰的氮化碳骨架材料与所述含有抗生素的待处理水样的质量体积比为0.8g∶1L。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述盐酸金霉素废水中盐酸金霉素的浓度为20 mg/L，所述盐酸金霉素废水的pH为2～7。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述盐酸金霉素废水中盐酸金霉素的浓度为20 mg/L，所述盐酸金霉素废水的pH为2～7。

9.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，搅拌吸附过程中转速为420 r/min，搅拌吸附时间为2h，光照时间为1h。

10.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述在暗处搅拌达到吸附平衡指，在暗处转速为420 r/min磁力搅拌1h-2h；模拟日光条件指在λ≥420nm的可见光下照射。