[发明专利]投影调节系统及其投影调节方法

权利要求书

1.一投影调节系统，其特征在于，包括：

一照明模块，其中所述照明模块投射携带成像信息的光线；

一投影模块，其中所述投影模块获取被携带成像信息的光线后向外投射至一投影面；以及

一可变光阑控制模块，其中所述可变光阑控制模块包括至少一可变光阑和一控制器，其中每个所述可变光阑在所述控制器的控制下调节其中的至少一光阑口径，通过缩放所述光阑口径来调节向外投射的光线的光强度。

2.根据权利要求1所述的投影调节系统，其中所述可变光阑控制模块包括一第一可变光阑，其中所述第一可变光阑被所述控制器控制地调节其所述光阑口径的大小。

3.根据权利要求2所述的投影调节系统，其中所述第一可变光阑被设置于所述照明模块的光线路径。

4.根据权利要求2所述的投影调节系统，其中所述可变光阑控制模块进一步地包括一第二可变光阑，其中所述第一可变光阑与所述第二可变光阑被所述控制器控制地调节各自的所述光阑口径。

5.根据权利要求4所述的投影调节系统，其中所述第二可变光阑被设置的位置选自被设置于照明模块的出射方向且处于所述投影模块的入射方向，被设置于所述投影模块的光线路径组成的位置组。

6.根据权利要求2所述的投影调节系统，其中所述照明模块进一步地包括一光源单元、一光线处理单元以及一成像单元，其中所述光线处理单元获取被所述光源单元的提供光线至所述光线处理单元后导向并处理光线，其中被所述光线处理单元导向且处理的光线被所述成像单元成像后反射出携带成像信息的光线。

7.根据权利要求6所述的投影调节系统，其中第一可变光阑被设置于所述成像单元的入射方向，在所述成像单元成像光线前调控被通过的光线的通光量。

8.根据权利要求6所述的投影调节系统，其中第一可变光阑的位置选自被设置于所述光源单元的出射方向且被设置于所述光线处理单元的入射方向、所述第一可变光阑被设置于所述光线处理单元的光线路径以及被设置于所述光线处理单元的出射方向且被设置于所述成像单元的入射方向组成的位置组。

9.根据权利要求6所述的投影调节系统，其中所述光线处理单元包括一准直单元，其中所述第一可变光阑被设置于所述准直单元的出射路径且被设置于所述成像单元的入射方向。

10.根据权利要求6所述的投影调节系统，其中所述光线处理单元包括一复眼透镜系统、一中继透镜系统以及一导光元件，其中所述复眼透镜系统被设置于所述光源模块的出射方向，其中所述中继透镜系统被设置于所述复眼透镜系统的出射方向且被设置于所述导光元件的入射方向，其中所述复眼透镜系统匀化光线后被所述中继透镜系统整形，其中所述导光元件获取被所述中继透镜系统整形的光线后导向光线至所述成像单元，其中所述可变光阑的位置选自被设置于所述复眼透镜系统的出射方向且被设置于所述中继透镜系统的入射方向、被设置于所述复眼透镜系统的出射方向且被设置于所述导光元件的入射方向以及被设置于所述导向元件的出射方向且被设置于所述成像单元的入射方向组成的位置组。

11.根据权利要求10所述的投影调节系统，其中所述中继透镜系统进一步地包括一第一中继透镜、一反射镜以及一第二中继透镜，其中所述第一中继透镜获取被所述复眼透镜系统匀化的光线后整形地投射至所述反射镜，其中所述反射镜反射光线至所述第二中继透镜，其中被所述反射镜反射的光线被所述第二中继透镜整形地投射至所述导光元件，其中所述第一可变光阑的位置选自被设置于所述第一中继透镜的出射路径并被设置于所述反射镜的入射路径、被设置于所述反射镜的出射路径并被设置于所述第二中继透镜的入射路径组成的位置组。