[发明专利]选择性刻蚀液组合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种选择性刻蚀液组合物，其特征在于，其包括以下组分：添加剂、磷酸和水，所述添加剂为式1化合物和/或式2化合物；

其中，R^1a、R^1b、R^1c、R^2a、R^2b和R^2c各自独立地为H、C_1～4烷基、C_1～4烷氧基、卤素、R^a和R^b独立地为H或C_1～4烷基；

m和n各自独立地为0～6中任一整数；

R^3a、R^3b和R^3c各自独立地为H、C_1～4烷基、C_1～4烷氧基、卤素、或羟基；

X为NH、NCH₃、NCH₂CH₃、S、S-S、S-S-S、S-S-S-S、或者不存在；R^c为C_1～4烷基或卤素取代的C_1～4烷基；

q为1、2或3；

R⁴为-SH、卤素取代的C_1～4烷基、苯胺基、联胺基或烷基取代的联胺基；

R^4-1a和R^4-1b各自独立地为H或C_1～4烷基；

R^4-2a、R^4-2b和R^4-2c各自独立地为C_1～18烷基；

当R⁴为时，式2化合物为其盐酸盐的形式。

2.如权利要求1所述选择性刻蚀液组合物，其特征在于，R^1a、R^1b、R^1c、R^2a、R^2b、R^2c、R^3a、R^3b和R^3c中，所述C_1～4烷基各自独地为甲基、乙基、正丙基或异丙基，优选甲基或乙基；

和/或，R^1a、R^1b、R^1c、R^2a、R^2b、R^2c、R^3a、R^3b和R^3c中，所述C_1～4烷氧基各自独地为甲氧基、乙氧基、正丙氧基或异丙氧基，优选甲氧基或乙氧基；

和/或，R^1a、R^1b、R^1c、R^2a、R^2b、R^2c、R^3a、R^3b和R^3c中，所述卤素各自独地为F、Cl或Br，优选Cl；

和/或，R^a和R^b中，所述C_1～4烷基各自独地为甲基、乙基、正丙基或异丙基，优选甲基或乙基

和/或，R^c中，所述C_1～4烷基为甲基、乙基、正丙基或异丙基，优选甲基；

和/或，R^c中，所述卤素取代C_1～4烷基中的卤素为F、Cl或Br，优选F；

和/或，R^c中，所述卤素取代C_1～4烷基中的C_1～4烷基为甲基、乙基、正丙基或异丙基，优选甲基；

和/或，R⁴中，所述卤素取代C_1～4烷基中的卤素为F、Cl或Br，优选F；

和/或，R⁴中，所述卤素取代C_1～4烷基中的C_1～4烷基为甲基、乙基、正丙基或异丙基，优选甲基；

和/或，R⁴中，所述烷基取代的联胺基为C_1～10烷基取代的联胺基，进一步优选为二甲基联胺基；

和/或，R^4-1a和R^4-1b中，所述C_1～4烷基各自独地为甲基、乙基、正丙基或异丙基，优选甲基或乙基；

和/或，R^4-2a、R^4-2b和R^4-2c中，所述C_1～18烷基各自独立地为甲基、十二烷基、十四烷基、十六烷基或十八烷基，优选甲基或十八烷基。