[发明专利]一种聚焦可调的多焦点并行显微成像装置

权利要求书

1.一种聚焦可调的多焦点并行显微成像装置，包括激光器、反射镜、半波片、上物镜、电机、双层微球结构、样品台、下物镜、探测器，其特征在于：

所述双层微球结构包括上玻片、下玻片；所述上玻片下表面、下玻片上表面分别有利用聚焦离子束刻蚀的环状排列的第一层微球和第二层微球，第一层微球和第二层微球结构完全一致；

所述上玻片与电机相连，通过控制电机可使上玻片绕轴转动，改变双层微球结构之间的夹角；

所述激光器发射的光束照射到反射镜上，反射镜将光束反射到半波片上，产生的线偏振光经过上物镜后，照射在双层微球结构上，在双层微球结构下方形成多个焦点，多个焦点在轴向并行工作，并激发样品台上的样品产生荧光，荧光被下物镜收集进入到探测器，结合样品台在水平位置的移动，完成各焦点所在轴向位置的水平层扫描，控制电机使上玻片绕轴转动，继续逐渐增大第一层微球和第二层微球之间的夹角，改变多个焦点的焦距直至完成样品厚度范围内的扫描。

2.根据权利要求1所述的一种聚焦可调的多焦点并行显微成像装置，其特征在于：所述激光器所用激光波长为632纳米。

3.根据权利要求1所述的一种聚焦可调的多焦点并行显微成像装置，其特征在于：所述第一层微球、第二层微球的材质为SiO₂，微球介质折射率为1.5。