[发明专利]一种组合式气化烧嘴及其使用方法在审
申请号: | 201910520919.6 | 申请日: | 2019-06-17 |
公开(公告)号: | CN110093190A | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 魏佳;张礼;李锡华 | 申请(专利权)人: | 北京迈未科技有限公司 |
主分类号: | C10J3/50 | 分类号: | C10J3/50 |
代理公司: | 北京中慧创科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11721 | 代理人: | 由元 |
地址: | 100000 北京市通州区经济技*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烧嘴 气化 组合式 氧化剂 氧化剂通道 燃料通道 燃料 燃料及氧化剂 紧固件连接 反应空间 同轴套装 总投料量 气化室 掺混 单路 停留 保证 | ||
1.一种组合式气化烧嘴,其特征在于,包括由外到内依次同轴套装的第一部件(1)、第二部件(2)和第三部件(3),所述的第一部件(1)、第二部件(2)和第三部件(3)各部件相互独立,通过紧固件连接为整体;所述的第一部件(1)和第三部件(3)分别具有独立的燃料通道和氧化剂通道。
2.如权利要求1所述的组合式气化烧嘴,其特征在于,所述第一部件(1)包括由外到内同轴布置的第一部件外管(4)和第一部件内管(5),所述第一部件外管(4)长度小于所述第一部件内管(5)长度,所述第一部件外管(4)尾部和所述第一部件内管(5)身部通过第一部件环板(6)连接,形成第一环形空间;所述第一部件环板(6)上设置有一次燃料进口(7);所述第一部件内管(5)侧壁未被所述第一部件外管覆盖的身部的设置有一次氧化剂进口(8);所述第一部件外管(4)身部设置有第一部件身部法兰(9);所述第一部件内管(5)尾部设置有第一部件尾部法兰(10)。
3.如权利要求1所述的组合式气化烧嘴,其特征在于,所述第二部件(2)包括第二部件套管(11);所述第二部件套管(11)的未被所述第一部件覆盖的身部侧壁设置有废液/保护气进口(12);所述第二部件套管(11)身部略低于所述废液/保护气进口(12)的位置设置有第二部件身部法兰(13),用于与所述第一部件尾部法兰(10)紧固连接;所述第二部件套管(11)尾部设置有第二部件尾部法兰(14)。
4.如权利要求1所述的组合式气化烧嘴,其特征在于,所述第三部件(3)包括由外到内同轴布置的第三部件外管(15)和第三部件内管(16),所述的第三部件外管(15)长度小于所述第三部件内管(16)长度,所述第三部件外管(15)尾部和所述第三部件内管(16)身部通过第三部件环板(17)连接,使所述第三部件外管(15)和所述第三部件内管(16)之间形成第二环形空腔;所述第三部件外管(15)侧壁设置有二次氧化剂进口(18);所述第三部件内管(16)尾部设置有二次燃料进口(19);所述第三部件外管(15)身部设置有第三部件身部法兰(20),用于与所述第二部件尾部法兰(14)紧固连接。
5.如权利要求1-4中任一项所述的组合式气化烧嘴,其特征在于,所述第一部件身部法兰(9)与汽化炉炉盖通过紧固件连接;所述第一部件尾部法兰(10)与第二部件身部法兰(13)通过紧固件连接;所述第二部件尾部法兰(14)与第三部件身部法兰(20)通过紧固件连接。
6.如权利要求1-4中任一项所述的组合式气化烧嘴,其特征在于,所述第一环形空腔构成一次燃料通道(21);所述第一部件内管(5)的内壁和第二部件套管(11)的外壁之间的环隙构成一次氧化剂通道(22);所述第二部件套管(11)内壁和第三部件外管外壁(15)之间的环隙构成废液/保护气通道(23);所述第二环形空间构成二次氧化剂通道(24);所述第三部件内管(16)内侧构成二次燃料通道(25)。
7.如权利要求6所述的组合式气化烧嘴,其特征在于,所述一次燃料通道(21)内有N根燃料输送管(26),N为大于等于1的整数;所述燃料输送管(26)入口端连接一次燃料进口(7),并且所述燃料输送管(26)为螺旋盘管;优选地,所述燃料输送管(26)沿圆周方向均布,单根燃料输送管为螺旋管或出口端有旋流的直管。
8.如权利要求6所述的组合式气化烧嘴,其特征在于,所述一次氧化剂通道(22)和二次氧化剂通道(24)出口处均设置有氧化剂旋流装置(27)。
9.一种权利要求1-8任一项所述的气化烧嘴的使用方法,其特征在于,所述气化烧嘴具有两组流量能够独立调节的燃料和氧化剂给料通道,以及一路流量能够独立调节的废液或保护气通道;所述一次燃料通过所述第一燃料进口(7)输入到所述燃料输送管(26)内,从所述燃料输送管(26)出口端进入所述一次燃料通道(21),并喷入气化室;所述二次燃料通过所述二次燃料进口(19)进入到所述二次燃料通道(25),并喷入气化室;燃料在进入气化室时在喷口入的速度范围为1-50m/s;相应的,所述一次氧化剂通过所述一次氧化剂进口(8)进入到所述一次氧化剂通道(22),所述二次氧化剂通过所述二次氧化剂进口(18)进入到所述二次氧化剂通道(24),所述一次氧化剂通过所述一次氧化剂通道(22)喷入气化室,所述二次氧化剂通过所述二次氧化剂通道(24)喷入气化室;所述一次氧化剂和所述二次氧化剂在烧嘴喷口处的速度范围为1-200m/s;
当化工装置产生废液时,所述废液通过废液/保护气进口(12)进入到所述废液/保护气通道(23),其中,所述废液在气化室出口处的速度为1-100m/s;
当化工装置不产生废液时,向所述废液/保护气进口(12)通入保护气,所述保护气在气化室出口处的速度为1-200m/s。
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