[发明专利]通过原位反馈的晶片放置和间隙控制最佳化

权利要求书

1.一种用于定位和检测在基板支撑件或转盘中的晶片的装置，包含：

处理夹具，包含处理夹具主体，所述处理夹具主体具有处理夹具底表面、在所述处理夹具主体中的至少三个开口；

至少三个接近传感器，保持在所述处理夹具主体中的所述至少三个开口之内；和

基座，所述基座包含基座板，所述基座板连接至界定旋转轴的支柱，所述基座板具有基座板顶表面、基座中心点和一或多个凹槽，所述旋转轴位于所述基座中心点处，所述一或多个凹槽形成在所述基座板顶表面中、与所述基座中心点相距距离R_R；

其中所述基座板顶表面与所述处理夹具底表面分离达间隙距离D_G；以及

至少三个接近传感器的每一个具有大体上平行于所述基座板顶表面的操作面，且第一开口位于相距所述基座中心点的距离R₁处，第二开口位于相距所述基座中心点的距离R₂处，而第三开口位于相距所述基座中心点的距离R₃处，R₂＝R_R且R₁R₂R₃，并且所述接近传感器是对于0.1mm至5.0mm的间隙距离范围具有0.2nm至28nm的灵敏度范围的电容式位移传感器。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述处理夹具主体包含四个开口和保持在所述四个开口之内的四个接近传感器，其中第四开口位于相距所述基座中心点的距离R₄处，且R₂R₄R₃。

3.如权利要求1所述的装置，所述装置进一步包含与所述至少三个接近传感器电通信的控制器，其中所述控制器通过电路径接收电信号和确定在所述至少三个接近传感器和所述至少三个接近传感器之下的表面特征结构之间的距离，和如果所述距离在预期范围之外提供一警报。

4.如权利要求1所述的装置，其中所述至少三个开口和保持在所述至少三个开口之内的至少三个接近传感器可在所述处理夹具中沿着直线布置，以便所述接近传感器可检测所述基座的弯曲。

5.如权利要求1所述的装置，其中所述至少三个开口和保持在所述至少三个开口之内的至少三个接近传感器可在所述处理夹具中以三角图案布置，以便所述接近传感器可提供用于检测所述基座的倾斜的测量。

6.如权利要求1所述的装置，其中所述处理夹具是用于原子层沉积的注入器。

7.如权利要求1所述的装置，其中所述基座中心点与所述处理夹具的中心点对齐。