[发明专利]显示基板及其摩擦取向方法、制备方法

说明书

本发明实施例提供一种显示基板及其摩擦取向方法、制备方法，该显示基板的摩擦取向方法包括：在所述非平坦层之上形成平坦层，以使所述非平坦层的表面形成平面；在所述显示基板的表面形成配向膜层；采用摩擦件对上述配向膜层的表面进行摩擦取向；冲洗上述显示基板；本发明能够有效降低显示基板出现配向型不良的发生率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其摩擦取向方法、制备方法。

背景技术

对于取向膜(Polyimide，简称PI)的取向是液晶显示屏(Liquid CrystalDisplay，简称LCD)行业中的一项重要工艺，目前LCD行业多采用摩擦(Rubbing)工艺对取向膜进行取向。在摩擦工艺中采用摩擦件对显示基板分别进行摩擦取向，然后进行对盒工艺。在摩擦取向过程中，摩擦件直接与显示基板直接接触摩擦，期间会产生大量的杂质颗粒，这些杂质颗粒包括摩擦件磨损取向膜表面产生的微小颗粒，以及摩擦件损耗产生的碎屑颗粒。因此在将显示基板对盒之前需要对显示基板进行清洗。图1为现有TFT基板清洗之后的结构示意图，现有技术的TFT基板在制备过程中，对阵列基板1进行清洗后，阵列基板1上仍然存在大量的杂质颗粒2，且这些杂质颗粒2会在阵列基板1的显示区域堆积，导致制成的阵列基板1容易出现在显示区域边部聚集的配向型不良的问题，如图1所示。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种显示基板及其摩擦取向方法、制备方法，能够有效降低显示基板出现配向型不良的发生率。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示基板摩擦取向方法，所述显示基板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域的表面形成非平坦层，所述显示基板摩擦取向方法包括：

在所述非平坦层之上形成平坦层，以使所述非平坦层的表面形成平面；

在所述显示基板的表面形成配向膜层；

采用摩擦件对上述配向膜层的表面进行摩擦取向；

冲洗上述显示基板。

可选地，所述采用摩擦件对上述配向膜层的表面进行摩擦取向之后，还包括：

对所述摩擦件进行梳理，以避免所述摩擦件在摩擦取向过程中产生杂质颗粒。

可选地，所述显示基板还包括空白区域，所述采用摩擦件对上述配向膜层的表面进行摩擦取向之后，所述显示基板摩擦取向方法还包括：

在所述空白区域的上方对所述摩擦件进行梳理。

可选地，所述显示基板包括多个显示区域和多个非显示区域，所述空白区域位于相邻的非显示区域之间以及所述显示基板的周边。

可选地，对所述摩擦件进行梳理，包括：

将所述摩擦件对玻璃基板进行5～10次摩擦。

可选地，在所述非平坦层之上形成平坦层，包括：

在所述非平坦层之上形成涂胶层；

对所述非平坦层的非平坦处的涂胶层进行曝光反应；

对所述涂胶层进行显影，去除所述非平坦处以外的涂胶层；

对所述非平坦处的涂胶层进行固化，形成所述平坦层。

可选地，所述平坦层的材料采用光敏材料。

可选地，所述冲洗上述显示基板包括：

在显示基板表面形成稳定均匀的水膜，通过该水膜对显示基板表面在摩擦取向过程中产生的杂质颗粒进行冲洗。

可选地，所述采用摩擦件对上述配向膜层的表面进行摩擦取向的方向与所述冲洗显示基板的冲洗方向相同。