[发明专利]一种湿法处理氮氧化物废气的方法和系统

说明书

本发明涉及废气处理领域，特别涉及一种湿法处理氮氧化物废气的方法和系统。所述湿法处理氮氧化物废气的方法，包括以下步骤：S100：将一氧化氮氧化为二氧化氮的步骤；S101：二氧化氮还原的步骤；S102：酸性废气处理的步骤。

技术领域

本发明涉及废气处理领域，特别涉及一种湿法处理氮氧化物废气的方法和系统。

背景技术

当前，电子工业的主流产品为半导体芯片和显示器件，其生产过程的清洗、化学气相淀积(CVD)等工序会产生氮氧化物(NO_X)，另外，一些高温氧化过程也会产生NO_X。NO_X是形成光化学烟雾和酸雨的一个重要原因，NO_X还会刺激肺部，长期吸入会严重影响人类健康。

传统的处理NOx的方法主要可分为催化还原法、液体吸收法和吸附法三大类。

催化还原法去除NO_X的效率不是很高，并且需要高温条件，需消耗大量的电能或燃料气。

用液体吸收法吸收废气中的NOx，吸收液通常为NaOH，但即使经过三级吸收液淋洗，处理效率也仅为80％左右，如果NO含量较多，NO_X去除效率会更低。

吸附法对NOx的脱除效率较高。但由于受吸附剂吸附容量的限制，如果废气中的NO_X浓度较高，需要的吸附剂量比较大，且饱和后需要定期更换，因而设备庞大、成本较高、且运行维护工作量大。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供了一种湿法处理氮氧化物废气的方法和系统。

根据本发明的一方面，提供了一种湿法处理氮氧化物废气的方法，包括以下步骤：

S100：将一氧化氮氧化为二氧化氮的步骤；

S101：二氧化氮还原的步骤；

S102：酸性废气处理的步骤。

根据本发明的一个实施方式，在步骤S100中，采用氧化剂溶液进行氧化，所述氧化剂溶液中的氧化剂选自NaClO、NaClO₂、KMnO₄中的一种或一种以上。

根据本发明的一个实施方式，在步骤S100中，将一氧化氮氧化为二氧化氮时，所述氧化剂溶液的氧化还原电位在200mV～800mV之间。

根据本发明的一个实施方式，在步骤S101中，采用还原剂溶液进行还原，所述还原剂溶液中的还原剂选自Na₂S、NaHS、Na₂SO₃、Na₂S₂O₃中的一种或一种以上。

根据本发明的一个实施方式，在步骤S101中，还原二氧化氮时，所述还原剂溶液的氧化还原电位在-200mV～-500mV之间。

根据本发明的一个实施方式，在步骤S102中，采用氢氧化钠溶液进行酸性废气处理。

根据本发明的一个实施方式，所述氢氧化钠溶液的pH值为9～13。

根据本发明的另一方面，提供了一种湿法处理氮氧化物废气的系统，包括：从上游至下游依次设置的一氧化氮氧化装置1、二氧化氮还原装置2、以及酸性废气处理装置3。

根据本发明的一个实施方式，所述系统还包括进风管路5、排风装置4和排风管路6；所述排风装置4设置在所述酸性废气处理装置3的下游，所述排风管路6设置在所述排风装置4的下游；所述进风管路5设置在所述一氧化氮氧化装置1的上游、并与所述一氧化氮氧化装置1连接。