[发明专利]一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质

说明书

本发明实施例公开了一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质，光刻设备包括两个运动台；运动台的工作区包括曝光区和非曝光区，光刻设备的控制方法包括：控制一运动台在曝光区进行第一工序的过程中，控制另一运动台在非曝光区进行第二工序，且当第一工序完成时，非曝光区的运动台运动到非曝光区和曝光区的交界处，第一工序包括曝光，因曝光时间较长，进而可以使得在非曝光区进行第二工序的运动台向曝光区运动的速度较慢，进而不会造成光刻设备和承载两个运动台的导轨的振动，则不会对正在曝光的运动台造成串扰，有利于提高曝光精度，并有利于提高光刻设备的产率。

技术领域

本发明实施例涉及光刻设备技术领域，尤其涉及一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质。

背景技术

随着光刻技术的发展，大世代双运动台的光刻机得到越来越广泛的应用。

大世代的光刻机可用于尺寸较大的基板的曝光，但是基板尺寸较大造成运动台承载基板运动时惯性较大，运动台高速运动时会带来光刻机设备的振动，使得两个运动台已发生串扰，影响曝光精度。

发明内容

本发明提供一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质，以实现提高光刻设备产率以及消除光刻设备两个运动台之间的串扰，提高曝光性能。

第一方面，本发明实施例提供了一种光刻设备的控制方法，光刻设备包括两个运动台；运动台的工作区包括曝光区和非曝光区，光刻设备的控制方法包括：

控制一运动台在曝光区进行第一工序的过程中，控制另一运动台在非曝光区进行第二工序，且当第一工序完成时,非曝光区的运动台运动到非曝光区和曝光区的交界处，第一工序包括曝光。

其中，光刻设备包括第一运动台和第二运动台，非曝光区包括第一非曝光区和第二非曝光区，第一非曝光区、曝光区和第二非曝光区沿第一方向依次设置；第一运动台的工作区包括曝光区和第一非曝光区，第二运动台的工作区包括曝光区和第二非曝光区；

控制一运动台在曝光区进行第一工序的过程中，控制另一运动台在非曝光区进行第二工序包括：

控制第一运动台在曝光区进行第一工序的过程中，控制第二运动台在第二非曝光区进行第二工序。

其中，控制第一运动台在曝光区进行第一工序的过程中，控制第二运动台在第二非曝光区进行第二工序完成之后还包括：

控制第二运动台在曝光区进行第一工序的过程中，控制第一运动台在第一非曝光区进行第二工序。

其中，第一工序包括依次执行调平调焦、掩模对准和曝光；第二工序包括依次执行交接物料和基板对准。

其中，在曝光区进行第一工序的运动台调平调焦所使用的时间之和与在非曝光区进行第二工序的运动台交接物料所使用的时间相等；

在曝光区进行第一工序的运动台掩膜对准和曝光所使用的时间之和与在非曝光区进行第二工序的运动台的基板对准所使用的时间相等。

其中，光刻设备包括基板对准标记检出传感器，基板对准标记检出传感器设置在非曝光区，在第一方向上，基板对准标记检出传感器与曝光区和非曝光区边界的距离大于或者等于运动台在第一方向上的长度。

其中，在第一方向上，基板对准标记检测传感器与曝光区和非曝光区边界的距离等于运动台在第一方向上的长度。

其中，任一运动台靠近另一运动台的一侧包括基板对准标记，运动台承载的物料包括n对物料对准标记；n对物料对准标记和基板对准标记沿第一方向等间隔依次设置，控制另一运动台在非曝光区进行第二工序，包括：

控制运动台的基板对准标记与基板对准标记检出传感器对准后，控制运动台沿第一方向分n次向曝光区步进运动，其中每次步进过程中运动台匀速运动，其中，n≥1。