[发明专利]一种低压二甲基二氯硅烷水解的系统及工艺

权利要求书

1.一种低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，所述工艺在一种低压二甲基二氯硅烷水解的系统中进行，所述系统包括水解反应器、循环泵、解析塔、分离器，所述水解反应器的出口连接解析塔的进口，所述解析塔的液相出口连接分离器进口，所述分离器水相出口连接循环泵进口，所述循环泵出口连接水解反应器进口，循环泵与水解反应器之间的管线连接二甲基二氯硅烷的输送管线，所述循环泵与分离器之间连接补充水管线，

所述解析塔包括分布盘和成膜组件，所述分布盘设置于降膜解析塔内部的中上部位，所述分布盘上设置有布液孔，所述成膜组件设置于分布盘的下方，所述成膜组件由若干组“人”字型板组合而成，

所述分离器为竖直设置的筒状结构，底部设有水相出口，顶部设有油相出口，

循环泵将分离器中的盐酸抽出后与二甲基二氯硅烷进行预混合后输送至水解反应器中进行一次水解反应，水解反应的后的物料进入解析塔，物料在解析塔的成膜组件形成液膜，液膜中的氯化氢析出后进行二次水解反应，解析塔中反应后的液体物料进入分离器，分离器的液体物料分为两层，下层为水相层，上层为油相层，水相层为盐酸，油相层为产品，反应压力控制为50kPa以下，所述压力为表压，水解反应器和解析塔的温度控制为30～50℃。

2.如权利要求1所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，包括氯化氢纯化装置，所述氯化氢纯化装置的进口连接解析塔的气相出口。

3.如权利要求2所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，所述氯化氢纯化装置的液相出口连接分离器的进口。

4.如权利要求2所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，所述氯化氢纯化装置包括冷凝器。

5.如权利要求2所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，所述氯化氢纯化装置包括干燥器。

6.如权利要求2所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，所述氯化氢纯化装置包括除雾器。

7.如权利要求2所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，所述氯化氢纯化装置按照气体流向包括依次连接冷凝器、干燥器、除雾器，冷凝器的进口连接解析塔的气相出口，干燥器的进口连接冷凝器的气相出口，除雾器的进口连接干燥器的气相出口，冷凝器的液相出口、干燥器的液相出口、除雾器的液相出口均连接分离器的进口。

8.如权利要求2所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，包括压缩机泵，所述压缩机泵的进口连接氯化氢纯化装置的气相出口。

9.如权利要求2所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，所述水解反应器为管状结构，所述管状结构内安装若干混合叶片，且管状结构内填充填料。

10.如权利要求9所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，管状结构的两端布置花板，所述花板与管状结构的轴线垂直，所述花板为开设若干通孔的板状结构。

11.如权利要求1所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，向分离器抽出的盐酸加水调节盐酸的质量浓度为33～35％。

12.如权利要求1所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，解析塔析出的氯化氢气体经过冷凝、干燥和/或除雾处理。

13.如权利要求1所述的低压二甲基二氯硅烷水解的工艺，其特征是，解析塔析出的氯化氢气体依次经过冷凝、干燥和除雾处理。