[发明专利]环保型铝合金抛光液及其制备方法

说明书

本发明公开了一种环保型铝合金抛光液，由Al₂O₃纳米粉、H₂O₂溶液、壳寡糖、水和pH调节剂配置而成；所述抛光液中Al₂O₃纳米粉的浓度为10～30g/l，H₂O₂的浓度为1～1.5vol％，壳寡糖的浓度为2～6g/l，pH值为11～12。本发明还提供了所述环保型铝合金抛光液的制备方法。由本发明的环保型铝合金抛光液，成分和制备工艺简单，抛光速率得到了较大的提高，且解决传统铝合金化学机械抛光液污染环境，对人体有伤害等问题。

技术领域

本发明涉及铝合金抛光技术领域，具体涉及一种环保型铝合金抛光液及其制备方法。

背景技术

铝合金材料加工性能好，质量轻，价格便宜，具有高的导热性等特点。由于自身优异的性能，其在国防军事、航空航天、机械制造有着非常广泛的应用，对其表面精度要求越来越高。国内对于铝合金抛光技术在金属铝镜反射镜的直接光学抛光技术上有较大研究，对抛光铝合金的去除效率做了相关研究，取得了一定的成果，但是抛光表面精度还需得到较大的提高。

目前对铝合金的抛光技术有螺旋振动(专利号：CN106737114A)、电化学抛光(专利号：CN107974706A、CN106757298A)等。螺旋振动抛光工艺，工艺步骤比较复杂，抛光前还需进行脱脂和水洗处理，抛光后的样品还需水洗、中和表面残余酸，水洗，干燥。电化学抛光虽然槽液组成简单，但是槽液中含有氟硼酸、磷酸等，对人体和环境有较大影响。陆建新(专利号：CN106752969A)制备的铝合金抛光液包含了二氧化硅溶胶、PH值调节剂、氧化剂、表面活性剂、抛光加速剂等多种成分，制备工艺繁琐。

化学机械抛光技术(CMP，Chemical Mechanical Polishing)是目前实现金属铝镜反射镜全面平坦化的最佳方法之一。化学机械抛光是化学去除和机械研磨共同作用的结果。黄华栋等(《双氧水体系抛光液中7003铝合金的化学机械抛光》)研究了双氧水体系抛光液中7003铝合金的化学机械抛光，但是其化学组成成分种类较多，粗糙度较高。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种环保型铝合金抛光液，该抛光液的成分和制备工艺简单，抛光速率得到了较大的提高，且解决传统铝合金化学机械抛光液污染环境，对人体有伤害等问题。

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种环保型铝合金抛光液，由Al₂O₃纳米粉、H₂O₂溶液、壳寡糖、水和pH调节剂配置而成；所述抛光液中Al₂O₃纳米粉的浓度为10～30g/l，H₂O₂的浓度为1～1.5vol％，壳寡糖的浓度为2～6g/l，pH值为11～12。

进一步地，步骤S1中，所述Al₂O₃纳米粉的粒径为30～60nm。

进一步地，所述pH调节剂为NaOH或三乙烯二胺。

进一步地，所述抛光液中Al₂O₃纳米粉的浓度为20g/l，H₂O₂溶液的浓度为1.2vol％，壳寡糖的浓度为5g/l。

进一步地，所述抛光液的pH值为11.2。

本发明另一方面还提供了所述的环保型铝合金抛光液的一种制备方法，包括：

将壳寡糖溶于水中，加入Al₂O₃纳米粉和H₂O₂溶液，超声搅拌至均匀；以及

使用pH调节剂将所得溶液的pH值调节至11～12。