[发明专利]OLED显示面板及其制备方法、显示装置

说明书

本发明披露一种OLED显示面板及其制备方法、显示装置，其中在OLED显示面板的第一无机封装层上设置一缓冲层，并且在所述缓冲层上制备一金属颗粒薄膜层，经由缓冲层的能量修饰作用下，形成一散射层，以及在所述散射层上设置一有机封装层，从而实现利用金属离子共振效应以改善对由发射层中的激子衰变所产生的光以及所吸收的活化层入射光的提取，从而增强外量子效率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种OLED显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

近年来，OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示技术发展突飞猛进，OLED产品由于具有轻薄、响应快、广视角、高对比度、可弯折等优点，受到了越来越多的关注和应用，其主要应用于手机、平板、电视等显示领域。

如附图1，OLED显示装置具体包括OLED显示面板，该OLED显示面板由下到上包括基底层110、TFT(薄膜场效应晶体管)驱动层120、OLED发光层130、第一无机封装层140、有机封装层150、第二无机封装层160等。OLED的发光原理是在两个电极之间沉积OLED发光层130，对OLED发光层130施加电流，通过载流子注入和复合而使OLED发光层130发光。目前，随着OLED发光层130中磷光和热激活延迟荧光材料的发展，使得内量子效率理论上达到100％，但是OLED发光层130的外量子效率仍然受到波导、衬底、表面等离子体等的限制，以至外量子效率很大程度上受到损失，其中，反射光损失占主导地位。

于是，如何改善外量子效率成为了相关研发者的重点研究项目。

发明内容

本发明的目的，提供一种OLED显示面板及其制备方法、显示装置，其中在OLED显示面板的第一无机封装层上设置一缓冲层，并且在所述缓冲层上制备一金属颗粒薄膜层，经由缓冲层的能量修饰作用下，形成一散射层，以及在所述散射层上设置一有机封装层，从而实现利用金属离子共振效应以改善对由发射层中的激子衰变所产生的光以及所吸收的活化层入射光的提取，从而增强外量子效率。

根据本发明的一方面，本发明提供了一种OLED显示面板。所述一种OLED显示面板包括一衬底基板、依次层叠设置在所述衬底基板上的一薄膜晶体管层和一有机发光层、一设置在所述有机发光层上的第一无机封装层，所述OLED显示面板还包括：一缓冲层，所述缓冲层设置在所述第一无机封装层上；一散射层，所述散射层设置在所述缓冲层上，所述散射层包括多个金属颗粒，所述金属颗粒用以降低对光的吸收率，并且增强散射效率。

在本发明的一实施例中，所述OLED显示面板还包括一第一有机封装层，所述第一有机封装层设置在所述散射层上。

在本发明的一实施例中，所述OLED显示面板还包括一第二无机封装层，所述第二无机封装层设置在所述第一有机封装层上。

在本发明的一实施例中，所述金属颗粒由银颗粒形成。

在本发明的一实施例中，所述金属颗粒的粒径为纳米级，优选地，所述金属颗粒的粒径大小范围为50纳米至150纳米。

在本发明的一实施例中，所述缓冲层的材料为聚乙撑二氧噻吩-聚苯乙烯硫磺，所述缓冲层的厚度为1～1.5μm。

在本发明的一实施例中，所述第一有机封装层的材料为聚甲基丙烯酸甲酯，所述第一有机封装层的厚度为3～8μm。

在本发明的一实施例中，所述第二无机封装层和所述第一无机封装层的材料为氮化矽或氧化矽，所述第二无机封装层和所述第一无机封装层的厚度为0.5～1μm。