[发明专利]一种西瓜种植方法

权利要求书

1.一种西瓜种植方法，其特征是步骤为：A开沟：在瓜地中开宽110～140cm、深100～130cm的沟；B填充基肥：在沟中填入40～60cm厚度的基肥；所述基肥为，西瓜枯枝落叶与杂草、农家牛粪及鸡粪、花生麸、肥饼、土按7：7：1：3：6的比例配制；在施入时按沟的长度施入的农家有机肥；所述农家有机肥包括人畜粪尿、饼肥、秸秆、稻壳、松针、河泥、树皮、杂草等等；C栽培层：在基肥层上部填充厚度30～40cm的栽培层，所述栽培层为农家有机肥与土1比1的比例配制，在施入时按沟的长度施入磷酸式盐二铵；D打畦：在上述的沟上打两道25～40cm高的埂，埂距80～100cm；E浇水：浇透水；F播种育苗：挑选颗粒饱满、健康的西瓜籽，使用30~40℃的清水浸泡30-40分钟，然后使用20~28℃的清水浸泡8~10小时，捞出后放置在湿纱布内；G点种：浇水后即可进行点种，每穴中点4～6粒西瓜籽，下种深度6～8cm；H整枝：生长过程中，每株保留6～10个蔓，多余瓜叉全部打掉，并及时压蔓；M留瓜：当瓜蔓生长到200～400片瓜叶时开始留瓜：选择长势健壮、瓜形端正的瓜胎留瓜，每株留瓜1～8个；N育瓜期管理：按常规种植方法进行管理直至西瓜成熟。