[发明专利]一种制备悬空的层状材料的方法在审
| 申请号： | 201910529796.2 | 申请日： | 2019-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN112110443A | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 黄元;罗海兰;赵林;周兴江 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | C01B32/198 | 分类号： | C01B32/198;C22F1/08;C22C9/00;C21D9/46;H01L39/24 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 郭广迅 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制备 悬空 层状 材料 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种制备悬空的层状材料的方法，包括如下步骤：
(1)在基底上制备图案化的孔阵列，得到具有孔阵列的基底；
(2)对所述具有孔阵列的基底进行氧等离子体清洗；
(3)用胶带机械解理石墨或铜基超导材料，将胶带上的石墨或铜基超导材料贴附到经过步骤(2)清洗的所述具有孔阵列的基底上，并进行热处理；
(4)热处理完成后，冷却至室温，随即从所述具有孔阵列的基底上剥离胶带，从而在所述具有孔阵列的基底上制得悬空的层状石墨烯或铜基超导材料。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述氧等离子体清洗是在如下条件下进行的：气流量为20～50sccm，功率为50～100W，清洗时间2-5min。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述步骤(1)中在基底上制备图案化的孔阵列是通过光学曝光和离子刻蚀进行的。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述孔阵列的孔直径为2-10μm，孔的中心间距为10-20μm。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基底为SiO2/Si基底、蓝宝石基底、玻璃基底或石英基底。
6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述铜基超导材料为Bi2212或Bi2201。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述步骤(3)中的热处理采用的温度为80-140℃，时间为10-30s。
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