[发明专利]一种曝光装置、光刻设备及太阳能电池电极的制备方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，包括：控制模块、曝光模块以及至少一个工作台；

所述工作台包括支撑台、支撑架、样品承载台、张紧机构以及两个转轮，所述样品承载台以及两个所述转轮通过所述支撑架固定于所述支撑台的同一侧，所述样品承载台位于两个所述转轮之间；所述样品承载台用于承载和固定待曝光样品，所述两个转轮用于配合所述样品承载台承载待曝光样品，并作为支撑轴套接所述待曝光样品；所述张紧机构用于张紧所述转轮上承载的待曝光样品；

所述曝光模块包括光学腔室，以及设置于所述光学腔室内的曝光光源；

所述控制模块用于控制所述曝光光源对所述工作台上承载的所述待曝光样品进行曝光；

所述至少一个工作台的数量大于或等于2，所述控制模块还用于控制所述工作台在所述光学腔室内的第一预设位置和所述光学腔室外的第二预设位置之间往返运动，并控制所述曝光光源对所述第一预设位置处的工作台承载的所述待曝光样品进行曝光；

所述控制所述工作台在所述光学腔室内的第一预设位置和所述光学腔室外的第二预设位置之间往返运动包括：待所述第一预设位置的工作台上承载的待曝光样品曝光完成后，所述控制模块控制所述第一预设位置处的工件台移动至光学腔室外的所述第二预设位置的同时，控制所述第二预设位置处的工作台移动至所述第一预设位置。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，沿所述支撑台和所述样品承载台的排列方向，所述转轮的最高点与所述样品承载台的承载面齐平。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述工作台上还设置有至少一个位置检测传感器；

所述位置检测传感器用于对所述待曝光样品的曝光位置进行检测。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述至少一个位置检测传感器包括位于同一矩形四个顶点位置处的第一位置检测传感器、第二位置检测传感器、第三位置检测传感器和第四位置检测传感器，所述第一位置检测传感器和所述第二位置检测传感器位于所述样品承载台的第一侧，所述第三位置检测传感器和所述第四位置检测传感器位于所述样品承载台的第二侧，第一侧和第二侧沿第二方向排列，所述第二方向垂直于所述两个转轮的排列方向。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述张紧机构包括张紧轮或张紧块。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括工作台支架；

所述曝光模块固定于所述工作台支架；

所述控制模块控制所述工作台在所述工作台支架上运动，以移入或移出所述光学腔室。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述工作台支架包括水平运动轨道和/或竖直运动轨道；

所述控制模块控制所述工作台在所述水平运动轨道上水平运动；和/或，

所述控制模块控制所述工作台在所述竖直运动轨道上竖直运动。

8.根据权利要求1～7任一项所述的装置，其特征在于，所述样品承载台上设置有台面孔；

所述样品承载台通过所述台面孔对所述待曝光样品与所述样品承载台的承载面之间的空隙抽真空，以固定所述待曝光样品。

9.根据权利要求1～7任一项所述的装置，其特征在于，所述曝光光源包括短波长的紫外激光光源或特征波长为200nm～400nm的汞灯光源。

10.根据权利要求1～7任一项所述的装置，其特征在于，所述曝光光源照射至所述待曝光样品上的光斑的形状为矩形；

所述矩形的尺寸S的取值范围为：0.1cm×0.1cm≤S≤15cm×15cm；

所述曝光光源的光强Q的取值范围为：0.5w/cm²≤Q≤15w/cm²。

11.根据权利要求1～7任一项所述的装置，其特征在于，所述待曝光样品包括柔性衬底。