[发明专利]一种镁电解槽及镁电解工艺在审

专利信息
申请号: 201910531951.4 申请日: 2019-06-19
公开(公告)号: CN110219021A 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: 李运雄 申请(专利权)人: 李运雄
主分类号: C25C3/04 分类号: C25C3/04;C25C7/00
代理公司: 南宁东智知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 45117 代理人: 巢雄辉
地址: 530400 广西壮族*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 电解槽本体 电解池 还原室 镁电解 镁电解槽 电解液 氧化镁 二氧化硅 盖板密封 碳素材料 冶金工业 一分隔墙 工艺流程 分隔墙 氟化钙 连接口 阳极块 氧化钙 中间处 盖板 侧壁 连通 能耗 隔离 敞开 建造 配合
【权利要求书】:

1.一种镁电解槽,包括电解槽本体(1),所述电解槽本体(1)由碳素材料制成,其特征在于,所述电解槽本体(1)在中间处设有一分隔墙(2)以使得所述电解槽本体(1)被分为电解池(3)和还原室(4),所述电解池(3)和还原室(4)上部由所述分隔墙(2)隔离,下部连通;所述电解池(3)上方敞开;所述还原室(4)的上方处放置有盖板(5),当所述盖板(5)放置在所述还原室(4)的上方时可实现对所述还原室(4)的上方密封处理,所述电解池(3)内安装有阳极块(6),所述盖板(5)或所述还原室(4)的上部的侧壁上开设有连接口(7)。

2.根据权利要求1所述的镁电解槽,其特征在于,所述电解槽本体(1)的下方设置有电磁搅拌器(8)。

3.根据权利要求1所述的镁电解槽,其特征在于,所述电解池(3)和还原室(4)的底部放置有铁、锰中的一种或两种。

4.一种使用权利要求1所述的镁电解槽进行镁电解的工艺,其特征在于,使用氧化镁为原料,电解液的成分为二氧化硅、氧化钙、氟化钙和氧化镁的混合物。

5.根据权利要求4所述的镁电解工艺,其特征在于,所述电解液的高度高于分隔墙(2)的下端。

6.根据权利要求4所述的镁电解工艺,其特征在于,所述还原室(4)由惰性气体保护。

7.根据权利要求4所述的镁电解工艺,其特征在于,包括以下步骤:

1)取下还原室(4)上方的盖板(5),然后往电解池(3)和还原室(4)内加入电解液,电解液的高度高于分隔墙(2)的下端、低于连接口(7)以使得电解池(3)和还原室(4)的下部在电解液和隔离墙(2)的作用下互相隔离;

2)在电解池(3)和还原室(4)的上方盖上盖板(5),并将外部的真空泵通过管道连接电解池(3)处的连接口(7),将外部的镁蒸气冷凝器、惰性气体罐、真空泵连接还原室(4)处的连接口(7),此时除了连接口(7)处,盖板(5)实现对电解池(3)和还原室(4)的上端敞口的密封;

3)启动真空泵,抽出电解池(3)和还原室(4)内的空气以形成一种真空状态;

4)关闭真空泵,往电解池(3)内加入空气,往还原室(4)内加入惰性气体,二者同步进行,直到电解池(3)和还原室(4)的压强与大气压平衡;

5)移走电解池(3)上方的盖板(5),并在电解池(3)内安装阳极块(6);

6)将阳极块(6)连接正极,电解槽本体(1)连接负极,通电后实现电解,往电解池(3)内加入氧化镁,在还原室(4)内生成镁蒸气。

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