[发明专利]一种磁透镜及激励电流控制方法在审
| 申请号： | 201910533328.2 | 申请日： | 2016-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN110265278A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 何伟;李帅 | 申请（专利权）人： | 聚束科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/141 | 分类号： | H01J37/141;H01J37/24 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 李梅香;张颖玲 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区经济*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激励线圈 磁透镜 电源控制系统 导磁壳体 导热 热损耗功率 电流方向 激励电流 聚焦特性 包覆物 恒定的 绞合线 填充 缠绕 包围 供电 外部 | ||
1.一种磁透镜，其特征在于，所述磁透镜包括：导磁壳体、激励线圈和电源控制系统；其中，
所述导磁壳体，在所述激励线圈的外部包围所述激励线圈；
所述激励线圈由绞合线缠绕，并通过导热包覆物填充所述绞合线而形成，所述绞合线包括第一组单线和第二组单线，所述第一组单线内的单线和所述第二组单线内的单线具有对称性；所述导热包覆物为高导热材料；
所述电源控制系统，用于对所述激励线圈供电，控制所述第一组单线的电流方向和电流大小，以及控制所述第二组单线的电流方向和电流大小，以使所述激励线圈具有恒定的热功率。
2.根据权利要求1所述的磁透镜，其特征在于，所述第一组单线的数量与所述第二组单线的数量相同，且所述第一组单线的数量和所述第二组单线的数量均为大于1的正整数。
3.根据权利要求2所述的磁透镜，其特征在于，所述电源控制系统包括：第一电源控制器和第二电源控制器；其中，
所述第一电源控制器，用于对所述第一组单线供电，控制所述第一组单线具有相同的电流方向及控制所述第一组单线的电流大小；
所述第二电源控制器，用于对所述第二组单线供电，控制所述第二组单线具有相反的电流方向及控制所述第二组单线的电流大小。
4.根据权利要求3所述的磁透镜，其特征在于，所述第一电源控制器和所述第二电源控制器的数量均为一个或多个。
5.一种控制磁透镜特性的方法，其特征在于，所述磁透镜的激励线圈由绞合线缠绕，并通过导热包覆物填充所述绞合线而形成，所述导热包覆物为高导热材料，所述绞合线包括第一组单线和第二组单线，所述第一组单线内的单线和所述第二组单线内的单线具有对称性，所述方法包括：
利用磁透镜中的电源控制系统对所述激励线圈供电，并控制所述第一组单线的电流方向和电流大小，以及控制所述第二组单线的电流方向和电流大小，以改变所述磁透镜的磁场强度及保持所述激励线圈的热功率不变。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述第一组单线的数量与所述第二组单线的数量相同，且所述第一组单线的数量和所述第二组单线的数量均为大于1的正整数。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述电源控制系统包括：第一电源控制器和第二电源控制器；所述利用磁透镜中的电源控制系统控制对所述激励线圈供电，并控制所述激励线圈的电流大小，包括：
利用所述第一电源控制器对所述第一组单线供电，控制所述第一组单线具有相同的电流方向及控制所述第一组单线的电流大小，以改变所述磁透镜的磁场强度；
利用所述第二电源控制器对所述第二组单线供电，控制所述第二组单线具有相反的电流方向及控制所述第二组单线的电流大小，以保持所述激励线圈的热功率不变。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述第一电源控制器和所述第二电源控制器的数量均为一个或多个。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于聚束科技（北京）有限公司，未经聚束科技（北京）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910533328.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
