[发明专利]同步磁阻电机转子结构、电机及转子结构制造的方法

权利要求书

1.一种同步磁阻电机转子结构，其特征在于，包括：

转子铁芯(10)，所述转子铁芯(10)上开设有多个狭缝槽(20)，各所述狭缝槽(20)的两端分别设置有一个填充槽(30)以形成磁障层，所述填充槽(30)的第一端与所述狭缝槽(20)相邻地设置，所述填充槽(30)的第二端沿所述转子铁芯(10)的径向方向向外延伸，所述转子铁芯(10)的外周面开设有与所述填充槽(30)的第二端的端部相连通的槽口(31)。

2.根据权利要求1所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，所述槽口(31)设置在所述填充槽(30)的第二端的端部，且靠近d轴的一侧。

3.根据权利要求1所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，所述槽口(31)的宽度为L，L小于所述填充槽(30)的第二端的端部的宽度，且0.5σ≤L≤4σ，σ为定子铁芯与所述转子铁芯(10)之间的气隙宽度。

4.根据权利要求3所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，所述槽口(31)的宽度满足1.5σ≤L≤3σ。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，所述填充槽(30)远离所述转子铁芯(10)的d轴一侧的第二端的侧壁上设置有斜边结构(32)，所述斜边结构(32)的靠近所述转子铁芯(10)外边缘的一端延伸至所述槽口(31)处。

6.根据权利要求3所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，0.1W≤L≤0.7W，其中，W为所述填充槽(30)的第二端的端部的宽度。

7.根据权利要求5所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，所述填充槽(30)的远离所述d轴一侧的侧壁与所述斜边结构(32)的夹角为θ，其中，125°≤θ≤165°。

8.根据权利要求1所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，所述填充槽(30)的延伸方向与所述转子铁芯(10)的d轴相平行或具有夹角地设置。

9.根据权利要求1所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，所述填充槽(30)的长度沿靠近所述转子铁芯(10)的d轴方向逐渐增加地设置。

10.根据权利要求1所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，所述狭缝槽(20)及所述填充槽(30)可以是矩形、圆弧形、或者是多种形状组合形成。

11.根据权利要求1所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，位于所述转子铁芯(10)的q轴上的所述填充槽(30)与所述转子铁芯(10)的外周面之间具有间距地设置。

12.根据权利要求1所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，位于所述转子铁芯(10)的不同极中，相邻所述狭缝槽(20)在转子圆周上沿所述转子铁芯(10)的d轴对称设置，所述填充槽(30)沿d轴或q轴对称地设置。

13.根据权利要求1所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，所述狭缝槽(20)与其两端的填充槽(30)组合形成的磁障层，在所述转子铁芯(10)的径向方向上的层数至少为两层。

14.根据权利要求1所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，所有狭缝槽(20)在q轴上总宽度与q轴上的所述填充槽(30)的宽度之和，与所述转子铁芯(10)的径向方向的有效铁芯宽度的比值Q1，其中，0.35≤Q1≤0.5。

15.根据权利要求1所述的同步磁阻电机转子结构，其特征在于，部分所述狭缝槽(20)和部分所述填充槽(30)中填入导电隔磁材料，或者，所有填充槽(30)中填入导电隔磁材料。