[发明专利]一种激光直接成像设备成像位置误差的测量方法及系统

权利要求书

1.一种激光直接成像设备成像位置误差的测量方法，其特征在于，用于测量拼接误差测量图形的拼接处误差，该拼接误差测量图形上布置有位于同一水平线且直径相等的三个MARK圆，所述三个MARK圆分别为布置在拼接误差测量图形的左侧图形首端和尾端的第一MARK圆、第二MARK圆，以及布置在拼接误差测量图形的右侧图形首端的第三MARK圆，包括：

将待检测的拼接误差测量图形输入至激光直接成像设备；

在所述激光直接成像设备的曝光工作台上放置一块基板，并将所述拼接误差测量图形的形貌投影在所述基板上，以对基板进行曝光成像；

将投影成像后的基板固定在可测量MARK圆中心坐标的测量设备上，并利用测量设备测量出所述三个MARK圆的中心坐标；

根据所述三个MARK圆的中心坐标，计算所述拼接误差测量图形的拼接处误差，包括：

利用第一MARK圆的中心坐标和第二MARK圆的中心坐标，计算在所述测量设备的坐标系下，所述基板的放板角度θ；

利用第二MARK圆的中心坐标、位于第三MARK圆的中心坐标和所述基板的放板角度θ，计算所述拼接误差测量图形的拼接处误差。

2.如权利要求1所述的激光直接成像设备成像位置误差的测量方法，其特征在于，所述基板为一块覆有感光干膜的PCB板。

3.如权利要求1所述的激光直接成像设备成像位置误差的测量方法，其特征在于，所述第一MARK圆的中心点M的坐标为(X0,Y0)，第二MARK圆的中心点A的坐标为(X1,Y1)，第三MARK圆的中心点B的坐标为(X2,Y2)；所述基板的放板角度θ为：θ＝arctan[(Y1-Y0)/(X1-X0)]。

4.如权利要求3所述的激光直接成像设备成像位置误差的测量方法，其特征在于，所述第二MARK圆的中心点A与第三MARK圆的中心点B在X方向的间距为L；

所述拼接误差测量图形在Y方向的拼接处误差的计算公式为：

ΔY＝[(Y2-Y1)-(X2-X1)×tanθ]×cosθ；

所述拼接误差测量图形在X方向的拼接处误差的计算公式为：

5.如权利要求4所述的激光直接成像设备成像位置误差的测量方法，其特征在于，所述第二MARK圆的中心点与所述第三MARK圆的中心点在X方向上的间距取值范围为5mm～10mm，所述三个MARK圆的直径取值范围均为1mm～2mm。

6.如权利要求1-5任一项所述的激光直接成像设备成像位置误差的测量方法，其特征在于，所述基板曝光成像的过程和所述三个MARK圆的中心坐标的测量过程均在黄光环境下进行。

7.一种激光直接成像设备成像位置误差的测量系统，其特征在于，包括基板、测量设备、计算设备和输入有拼接误差测量图形的激光直接成像设备；基板表面布置有覆有一层感光干膜的PCB板，基板曝光成像前，基板布置在激光直接成像设备的曝光工作台上；基板曝光成像后，基板固定在测量设备的测量台上，测量设备的输出端与计算设备连接；

该拼接误差测量图形上布置有位于同一水平线且直径相等的三个MARK圆，所述三个MARK圆为布置在拼接误差测量图形的左侧图形首端和尾端的第一MARK圆、第二MARK圆，以及布置在拼接误差测量图形的右侧图形首端的第三MARK圆；

所述计算设备用于根据所述三个MARK圆的中心坐标，计算所述拼接误差测量图形的拼接处误差；

所述计算设备包括：放板角度计算模块和拼接处误差计算模块；

放板角度计算模块用于利用位于左侧图形的首端和尾端的MARK圆的中心坐标，计算在所述测量设备的坐标系下，所述基板的放板角度θ；

拼接处误差计算模块用于利用所述位于左侧图形的尾端的MARK圆的中心坐标、位于右侧图形的首端的MARK圆的中心坐标和所述基板的放板角度，计算所述拼接误差测量图形的拼接处误差。

8.如权利要求7所述的激光直接成像设备成像位置误差的测量系统，其特征在于，所述第一MARK圆的中心点M的坐标为(X0,Y0)，第二MARK圆的中心点A的坐标为(X1,Y1)，第三MARK圆的中心点B的坐标为(X2,Y2)，所述第二MARK圆的中心点A与第三MARK圆的中心点B在X方向的间距为L；

所述基板的放板角度θ为：θ＝arctan[(Y1-Y0)/(X1-X0)]；

所述拼接误差测量图形在Y方向的拼接处误差的计算公式为：

ΔY＝[(Y2-Y1)-(X2-X1)×tanθ]×cosθ；

所述拼接误差测量图形在X方向的拼接处误差的计算公式为：