[发明专利]RF感测装置和包括RF感测装置的等离子体处理室

权利要求书

1.一种被引入到等离子体处理室的射频RF感测装置，所述RF感测装置包括：

穿透单元，被配置为容纳沿向上/向下方向延伸通过所述穿透单元的导电杆，其中，导电杆电流沿向上方向和向下方向中的一个方向流过所述导电杆；

主返回路径单元，至少部分地包围所述穿透单元；以及

辅返回路径单元，设置在所述穿透单元与所述主返回路径单元之间，与所述主返回路径单元间隔开分离空间，并至少部分地围绕所述穿透单元，

其中，所述主返回路径单元和所述辅返回路径单元形成返回电流路径，其中返回电流沿所述向上方向和所述向下方向中的另一方向流过所述返回电流路径。

2.根据权利要求1所述的RF感测装置，其中，所述辅返回路径单元包括上导体板、下导体板和连接单元，所述连接单元将所述上导体板的一部分与所述下导体板的一部分电连接。

3.根据权利要求1所述的RF感测装置，其中，所述返回电流的主部分流过所述主返回路径单元，并且所述返回电流的剩余部分流过所述辅返回路径单元。

4.根据权利要求3所述的RF感测装置，其中，所述返回电流的大小基本上等于所述导电杆电流的大小。

5.根据权利要求1所述的RF感测装置，还包括：

电流感测单元，设置在所述主返回路径单元与所述辅返回路径单元之间；以及

电压感测单元，设置在所述穿透单元与所述辅返回路径单元之间。

6.根据权利要求1所述的RF感测装置，还包括：

电流感测单元，设置在所述主返回路径单元与所述辅返回路径单元之间；以及

电压感测单元，设置在所述电流感测单元与所述辅返回路径单元之间。

7.根据权利要求1所述的RF感测装置，其中，所述辅返回路径单元包括第一辅返回路径单元和第二辅返回路径单元，并且

所述RF感测装置还包括：

电流感测单元，设置在所述主返回路径单元与所述第一辅返回路径单元之间；以及

电压感测单元，设置在所述第一辅返回路径单元与所述第二辅返回路径单元之间。

8.根据权利要求2所述的RF感测装置，其中，所述连接单元包括多个柱形导体孔，所述多个柱形导体孔具有至少一种尺寸且分隔开至少一个间隔距离。

9.根据权利要求8所述的RF感测装置，其中，所述多个柱形导体孔包括具有至少两种不同形状的柱形导体孔。

10.根据权利要求8所述的RF感测装置，其中，所述多个柱形导体孔包括具有至少两种不同尺寸的柱形导体孔。

11.一种被引入到等离子体处理室的射频RF感测装置，所述RF感测装置包括：

导电杆，导电杆电流沿一个方向流过所述导电杆；

电流返回单元，返回电流沿与所述一个方向相反的另一个方向流过所述电流返回单元，其中所述电流返回单元至少部分地包围所述导电杆，与所述导电杆物理分离，并且包括主返回路径单元和辅返回路径单元；以及

电流感测单元，设置在所述主返回路径单元与所述辅返回路径单元之间，

其中，所述返回电流中的在所述主返回路径单元中流动的主部分大于所述返回电流中的在所述辅返回路径单元中流动的剩余部分。

12.根据权利要求11所述的RF感测装置，还包括：电压感测单元，设置在所述导电杆与所述辅返回路径单元之间。

13.根据权利要求11所述的RF感测装置，还包括：电压感测单元，设置在所述电流感测单元与所述辅返回路径单元之间。