[发明专利]一种3d打印SiC晶须增强C/SiC多孔陶瓷的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910534269.0 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN110204348A 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 李斌斌;毛帮笑;黄海泉;王兴邦;贺韬 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: C04B35/81 分类号: C04B35/81;C04B35/80;B33Y70/00;B33Y50/00;B33Y10/00;C04B38/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 多孔陶瓷 晶须增强 制备 多孔陶瓷预制体 晶须 打印 选区激光烧结技术 选区激光烧结 高温热处理 短碳纤维 聚碳硅烷 均匀复合 孔隙分布 快速制备 形状复杂 粉体 生产成本
【权利要求书】:

1.一种3d打印SiC晶须增强C/SiC多孔陶瓷的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

(1)将短碳纤维、SiC晶须、聚碳硅烷按照体积比(35%-50%)∶(5%-10%)∶(40%-55%)分别溶解于二甲苯溶液中,超声分散1h使短碳纤维、SiC晶须、聚碳硅烷均匀分布,于135℃马弗炉中加热8h后研磨得到选区激光烧结所需的均匀复合粉体;

(2)构建多孔陶瓷预制体的三维立体模型,将三维模型数据转换为STL格式文件,然后导入3D打印机中进行分层处理并构建分层模型;

(3)将复合粉体置于粉末缸中,由3d打印机的铺粉系统根据(2)中的分层模型在成型缸中均匀铺上一层粉末,计算机根据多孔陶瓷预制体的切片模型控制激光束的扫描轨迹,选择性地烧结形成预制体的一个层面,如此循环往复、层层叠加最终制备多孔陶瓷预制体;

(4)将(3)得到的多孔陶瓷预制体放置于高温管式炉主温区,先以1-2℃/min升至800℃,然后以1℃/min升至1200-1250℃,于氩气氛围中保温1-3h,随炉冷却至室温得到SiC晶须增强C/SiC多孔陶瓷。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述的短碳纤维的直径为10-15μm,长度为150-200μm;所述的SiC晶须直径为50-100nm,长度为5-20μm;所述的聚碳硅烷同时作为高分子粘结剂、其平均粒径为100-150μm。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)所述的选区激光烧结的工艺参数为:激光功率为10-15W,扫描速度为800-1000mm/s,扫描间距为0.1-0.15mm,所述的成型缸保护气为高纯Ar、缸内压力为600-800Pa,铺粉单层厚度为0.08-0.1mm,铺粉台的预热温度为150-180℃。

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