[发明专利]掩膜板、掩膜装置及其应用方法

权利要求书

1.一种掩膜板，用于基板成膜，其特征在于，

所述基板包括一预设的开孔区，

所述掩膜板被一分隔线分为遮光区和开口区两部分；所述掩膜板包括一遮挡区，突出于所述遮光区的一侧边，该侧边在所述分隔线处连接至所述开口区，当所述掩膜板与所述基板被对位设置时，

所述遮挡区在所述基板表面的投影位于所述开孔区内。

2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，

所述遮挡区为半圆形，所述开孔区为圆形，所述遮挡区的半径与所述开孔区的半径相同。

3.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，

所述基板包括一基板分隔线，与所述分隔线在所述基板表面的投影部分地重合。

4.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，

所述掩膜板为矩形或圆角矩形；和/或，

所述分隔线的两端分别设于所述掩膜板两条相邻的侧边上；

所述分隔线与所述掩膜板两条相邻侧边分别形成一夹角，所述夹角的角度为40°～50°。

5.一种掩膜装置，包括

两个如权利要求1-4中任一项所述的掩膜板，分别为第一掩膜板及第二掩膜板；

其中，所述第一掩膜板被第一分隔线分为第一遮光区和第一开口区；

所述第二掩膜板被第二分隔线分为第二遮光区和第二开口区；

所述第一掩膜板的尺寸与第二掩膜板的尺寸相同；

所述第一分隔线在所述基板表面的投影，与所述第二分隔线在所述基板表面的投影部分地重合。

6.如权利要求5所述的掩膜装置，其特征在于，

所述第一分隔线包括第一直线部和第一弧线部；

所述第二分隔线包括第二直线部和第二弧线部；

所述第一直线部在所述基板表面的投影，与所述第二直线部在所述基板表面的投影重合；

所述第一弧线部在所述基板表面的投影，与所述第二弧线部在所述基板表面的投影围成一圆形，与所述开孔区的边际线重合。

7.一种掩膜装置的应用方法，其特征在于，包括如下步骤：

基板设置步骤，将一基板放置一蒸镀腔体内，所述基板包括一预设的开孔区；

第一对位步骤，将所述基板与第一掩膜板进行第一对位处理；

第一沉积步骤，在所述基板一侧表面沉积有机材料，形成一第一膜层，所述第一膜层具有第一缺口；

第二对位处理，将所述基板与第二掩膜板进行第二对位处理；以及

第二沉积步骤，在所述基板一侧表面沉积有机材料，形成一第二膜层，连接至所述第一膜层；所述第二膜层具有第二缺口；

其中，所述第一缺口和所述第二缺口在所述基板表面围成一通孔，与所述开孔区相对设置。

8.如权利要求7所述的掩膜装置的应用方法，其特征在于，

在所述第一沉积步骤中，

在真空蒸镀的环境下，对所述基板沉积有机材料，在所述基板表面形成所述第一膜层；

在所述第二沉积步骤中，

在真空蒸镀的环境下，对所述基板沉积有机材料，在所述基板表面形成所述第二膜层。

9.如权利要求7所述的掩膜装置的应用方法，其特征在于，

所述基板包括一基板分隔线；

所述第一膜层与所述第二膜层的连接处与所述基板分隔线相对设置。

10.如权利要求9所述的掩膜装置的应用方法，其特征在于，

所述第一膜层包括两个以上第一像素；

所述第二膜层包括两个以上第二像素；

所述第一像素、所述第二像素被排列为矩阵；

所述第一像素、所述第二像素分别位于所述基板分隔线的两侧。