[发明专利]岩样成像方法、装置以及系统有效

专利信息
申请号: 201910541346.5 申请日: 2019-06-21
公开(公告)号: CN110174428B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 刘家龙;杨继进;张玉星 申请(专利权)人: 中国科学院地质与地球物理研究所
主分类号: G01N23/2255 分类号: G01N23/2255;G01N23/2202
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨俊辉;刘芳
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 成像 方法 装置 以及 系统
【权利要求书】:

1.一种岩样成像方法,其特征在于,包括:

获取待成像的岩样;

采用电子显微镜成像系统对所述岩样的目标区域进行成像,得到所述目标区域的系列切割图像;其中,在对所述目标区域进行成像的过程中,使用纳米机械探针触压所述岩样的目标区域附近位置,将所述电子显微镜成像系统在所述岩样表面产生的荷电导出;所述纳米机械探针用于使所述岩样的目标区域与外界形成导电通路;

根据所述目标区域的系列切割图像,进行三维重构得到所述目标区域的三维数字岩心。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述采用电子显微镜成像系统对所述岩样的目标区域进行成像,得到所述目标区域的系列切割图像,包括:

采用聚焦离子束-扫描电镜FIB-SEM双束系统对所述岩样的目标区域进行成像,得到所述目标区域的系列切割图像,所述电子显微镜成像系统包括所述FIB-SEM双束系统。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取待成像的岩样,包括:

根据预设尺寸,对获取到的岩心样品进行切割,并进行抛光,得到光滑岩样;

对所述光滑岩样进行表面导电性优化处理,得到处理后的岩样;

对所述处理后的岩样沉积保护层并进行切割处理,将所述岩样的目标区域暴露。

4.根据权利要求1至3任一项所述的方法,其特征在于,所述根据所述目标区域的系列切割图像,进行三维重构得到所述目标区域的三维数字岩心,包括:

根据所述目标区域的系列切割图像,采用图像重构软件进行三维重构得到所述目标区域的所述三维数字岩心。

5.一种岩样成像装置,其特征在于,包括:

岩样获取模块,用于获取待成像的岩样;

图像采集模块,用于采用电子显微镜成像系统对所述岩样的目标区域进行成像,得到所述目标区域的系列切割图像;其中,在对所述目标区域进行成像的过程中,使用纳米机械探针触压所述岩样的目标区域附近位置,将所述电子显微镜成像系统在所述岩样上产生的荷电导出;所述纳米机械探针用于使所述岩样的目标区域与外界形成导电通路;

三维重构模块,用于根据所述目标区域的系列切割图像,进行三维重构得到所述目标区域的三维数字岩心。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述图像采集模块,具体用于:

采用聚焦离子束-扫描电镜FIB-SEM双束系统对所述岩样的目标区域进行成像,得到所述目标区域的系列切割图像,所述电子显微镜成像系统包括所述FIB-SEM双束系统。

7.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述岩样获取模块,包括:

岩样制备模块,用于根据预设尺寸,对获取到的岩心样品进行切割,并进行抛光,得到光滑岩样;

第一预处理模块,用于对所述光滑岩样进行表面导电性优化处理,得到处理后的岩样;

第二预处理模块,用于对所述处理后的岩样沉积保护层并进行切割处理,将所述岩样的目标区域暴露。

8.根据权利要求5至7任一项所述的装置,其特征在于,所述三维重构模块,具体用于:

根据所述目标区域的系列切割图像,采用图像重构软件进行重构得到所述目标区域的所述三维数字岩心。

9.一种岩样成像系统,其特征在于,包括:如权利要求5至8任一项所述的装置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院地质与地球物理研究所,未经中国科学院地质与地球物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910541346.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top