[发明专利]用于对相位掩膜进行校准的方法和显微镜

权利要求书

1.用于对检查样本的显微镜的光路内的相位掩膜进行校准的方法，其中，所述显微镜具有至少一个用于发出照明光的光源、至少一个用于将所述照明光引导到所述样本上的显微物镜和用于将探测光从所述样本引导到相机上的光学器件，其中，要被校准的相位掩膜布置在所述显微镜的光路内，在所述方法中执行以下方法步骤：

相继地以灰度值的不同模式来驱控所述相位掩膜，

其中，分段的第一子集的第一灰度值保持恒定，并且其中，使分段的第二子集的第二灰度值以从一个模式变到下一模式的方式变化，

针对不同的模式在所述相位掩膜射束下游测量所述光路内的光的总强度的至少一部分，并且获得测得的强度依赖于所述第二灰度值的特征变化曲线，

从所述特征变化曲线获得所述第二灰度值和通过所述相位掩膜赋予的相移之间的关系，并且

基于所获得的灰度值与相移之间的关系来校准对所述相位掩膜的驱控，

其中，针对校准测量，所述相位掩模经受来自所述光源的光，并且

其中，针对用于校准的测量使用专门的发荧光的样本，并且/或者针对用于校准的测量使用在用于保持所述样本的载玻片上或盖玻片上反射的光。

2.根据权利要求1所述的方法，

其中，

所述相位掩膜是具有像素列和像素行的2D相位掩膜。

3.根据权利要求1所述的方法，

其特征在于，

所述相位掩膜是空间光调制器。

4.根据权利要求3所述的方法，

其中，

所述相位掩膜是向列型空间光调制器。

5.根据权利要求1所述的方法，

其中，

所述模式至少沿一个空间方向是呈周期性的。

6.根据权利要求1所述的方法，

其中，

所述模式是用于产生达曼光栅的模式。

7.根据权利要求1项所述的方法，

其中，

所述第二灰度值在所述相位掩膜的整个动态范围上变化。

8.根据权利要求1所述的方法，

其中，

经由单独的射束偏转器件将针对用于校准的测量所使用的照明光引导到相机。

9.根据权利要求1所述的方法，

其中，

针对用于校准的测量将用于阻挡所述光路内的激励光的滤光器移除。

10.根据权利要求1所述的方法，

其中，

在所述相位掩膜射束下游利用空间滤光器阻挡第零衍射级的光，

其中，在所述空间滤光器射束下游测量所述光路的积分强度，并且

其中，所述第二灰度值与所述相移之间的关系通过比对I＝来获得。

11.根据权利要求1所述的方法，

其中，

针对校准仅测量第零衍射级的光，并且

其中，所述第二灰度值与所述相移之间的关系通过比对I＝来获得。

12.根据权利要求1所述的方法，

其中，

存在单独的仅针对用于对所述相位掩膜进行校准的测量所使用的相机。

13.根据权利要求1所述的方法，

其中，

为了测量强度，使用也用于原本的显微镜测量的那个相机。

14.根据权利要求1所述的方法，

其中，

所述显微镜是激光扫描显微镜、宽场显微镜或光片层照显微镜。