[发明专利]一种用于显晶类水晶表面的集中处理系统

说明书

本发明公开了一种用于显晶类水晶表面的集中处理系统，包括处理器外壳，所述处理器外壳内设有工作空间，所述工作空间右端壁安装有驱动机构，所述驱动机构左侧设有表面处理机构，所述表面处理机构包括可转动的螺纹块，所述螺纹块上螺纹连接有第一锥齿轮与第二锥齿轮，所述第二锥齿轮位于所述第一锥齿轮下侧，所述第一锥齿轮与所述表面处理机构啮合传动，本装置可对显晶类水晶表面进行自动化的处理，可根据要处理的显晶类水晶表面范围进行调节装置运动范围，从而进行集中处理，且根据显晶类水晶的高度调节表面处理器高度，从上到下进行全方面的处理，处理较为全面。

技术领域

本发明涉及水晶处理领域,具体为一种用于显晶类水晶表面的集中处理系统。

背景技术

显晶类水晶是一种现状较为明显的水晶，在经过较为简单的表面处理以后就可以形成较好的外观效果，而现有的显晶类水晶的加工自动化程度较低，对于加工范围的把控及不同尺寸的水晶的加工需要人工调节，操作较为繁琐耗时。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种用于显晶类水晶表面的集中处理系统，克服水晶加工自动化程度低，处理范围需要人工确定等问题。

本发明是通过以下技术方案来实现的。

本发明的一种用于显晶类水晶表面的集中处理系统，包括处理器外壳，所述处理器外壳内设有工作空间，所述工作空间右端壁安装有驱动机构；

所述驱动机构左侧设有表面处理机构，所述表面处理机构包括可转动的螺纹块，所述螺纹块上螺纹连接有第一锥齿轮与第二锥齿轮，所述第二锥齿轮位于所述第一锥齿轮下侧，所述第一锥齿轮与所述表面处理机构啮合传动，所述螺纹块左侧设有表面处理器，所述工作空间下端壁安装有安放台，通过所述第一锥齿轮与所述驱动机构的啮合传动可带动所述表面处理器绕所述螺纹块进行转动，从而对放置在所述安放台上端面的显晶类水晶进行表面处理；

所述工作空间上端壁内设有开口朝下的环形槽，所述环形槽内设有控制机构，所述控制机构用于控制所述表面处理机构的运动轨迹；

所述工作空间左端壁内设有开口向右的窄腔，所述窄腔内设有下降机构，所述下降机构包括可左右滑动的细杆，所述细杆可将所述表面处理器等时间间隔向下推动，以便对显晶类水晶从上到下全面处理。

优选地，所述表面处理机构还包括与所述工作空间上端壁转动连接的中心轴，所述中心轴上固定有所述螺纹块，所述螺纹块上螺纹连接有所述第一锥齿轮与第二锥齿轮，所述第二锥齿轮位于所述第一锥齿轮下侧，所述第二锥齿轮与所述第一锥齿轮通过两个支撑杆固定连接，所述中心轴左端面固定设有横向杆，所述横向杆左端固定设有上端位于所述环形槽内的受力杆，所述受力杆上端固定设有与所述环形槽滑动连接的弧形块，所述受力杆左端面固定设有空心块，所述空心块内设有开口朝前和左的方形腔，所述方形腔上下端壁间转动设有短轴。

优选地，所述短轴上固定设有左端位于所述工作空间内的单向杆，所述受力杆内设有开口朝下的升降腔，所述升降腔上端壁固定设有升降弹簧，所述升降弹簧下端固定设有与所述升降腔滑动连接的升降杆，所述升降杆下端位于所述工作空间内且固定设有所述表面处理器，所述升降腔左端壁通过阻挡槽连通所述工作空间，所述升降腔内的所述升降杆内均匀分布有四个开口朝左的压力槽，所述压力槽右端壁固定设有压力弹簧，所述压力弹簧左端固定设有与所述压力槽滑动连接的压力块，最下侧所述压力块贯穿所述阻挡槽。

优选地，所述下降机构还包括位于所述工作空间左端壁内的收纳腔，所述收纳腔开口朝右，所述收纳腔上端壁转动设有第一旋转轴，所述第一旋转轴上均匀固定设有六个传动杆，所述第一旋转轴下端固定设有第一传动齿轮，所述细杆下端壁转动设有上端位于所述收纳腔内的第二传动轴，所述第二传动轴上端固定设有与所述第一传动齿轮啮合传动的第二传动齿轮，所述窄腔内滑动设有齿块，所述第二传动轴上固定设有半齿轮，所述半齿轮转动时可与所述齿块啮合传动，所述齿块右端面固定设有所述细杆。