[发明专利]基于石墨烯的氮化镓外延层剥离方法有效

专利信息
申请号: 201910544984.2 申请日: 2019-06-21
公开(公告)号: CN110265356B 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 宁静;贾彦青;张进成;闫朝超;王东;王博宇;马佩军;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L21/78 分类号: H01L21/78;H01L21/02
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 石墨 氮化 外延 剥离 方法
【权利要求书】:

1.一种基于石墨烯的氮化镓外延层剥离方法,其特征在于:

(1)在抛光好的铜箔上生长石墨烯:

(1a)将抛光好的铜箔折叠成大小适中的荷包,放入石英舟中,并推至石英管中心恒温区,打开真空泵抽真空至0.6-2Pa;

(1b)给石英管中通入20-25sccm的H2,同时给石英管加热升温,当其温度达到700℃时,再给石英管中同时通入20-25sccm H2和700-720sccm的Ar,继续加热,直至石英管温度达到1045-1050℃;

(1c)温度保持不变,关闭所有进气阀门,使真空泵将石英管内的气压抽至0.6-2Pa;

(1d)温度保持不变,给石英管通入2sccm的O2,维持2min;

(1e)温度保持不变,关闭所有进气阀门,使真空泵将石英管内抽至1Pa;

(1f)温度保持不变,同时通入100sccm的H2和700sccm的Ar,维持60min;

(1g)温度保持不变,关断Ar阀门,再同时通入0.1-1sccm的CH4及400-600sccm的H2,维持60min;

(1h)保持H2和CH4流量不变,将石英管快速降温至室温,取出生长在铜箔上的石墨烯,其厚度为0.34nm;

(2)将生长在铜箔上的石墨烯转移到蓝宝石衬底上:

(2a)在生长有石墨烯的Cu箔表面手动涂一层聚甲基丙烯酸甲酯PMMA薄膜,并使用匀胶机将PMMA旋涂均匀,得到旋涂好PMMA的铜箔;

(2b)将旋涂好PMMA的铜箔放在加热台上,设置加热台温度为50-70℃,烘干20min,以使PMMA薄膜固化;

(2c)将固化有PMMA的铜箔剪成多个大小相同的小片置于64-68g/L的过硫酸铵溶液中,且将石墨烯的一面朝上,浸泡4-12小时,去除金属衬底,得到多片带有PMMA的单层石墨烯薄膜;

(2d)用干净的玻璃片将多片过硫酸铵溶液中的PMMA/石墨烯转移至去离子水中,浸泡30min后,用蓝宝石衬底捞出其中一小片PMMA/单层石墨烯,得到覆盖PMMA/单层石墨烯的蓝宝石衬底;

(2e)在玻璃容器中加入100-200ml的丙酮溶液,将PMMA/单层石墨烯/衬底完全淹没,浸泡12-24小时来溶解并充分去除PMMA,得到去除了PMMA的单层石墨烯/衬底;

(2f)将去除了PMMA的单层石墨烯/衬底从丙酮溶液转移至乙醇溶液中静置30min,随后将单层石墨烯/衬底捞出,自然晾干,完成单层石墨烯的转移;

(2g)使用转移了单层石墨烯的蓝宝石衬底再去捞第二片PMMA/单层石墨烯薄膜,得到覆盖PMMA/双层石墨烯的衬底,再重复(2e)-(2f),完成第二层石墨烯的转移,以此类推,去捞第三片到最后一片PMMA/石墨烯薄膜,完成第三层到最后一层石墨烯薄膜的转移;

(3)金属有机物化学气相淀积MOCVD生长氮化镓外延层:

(3a)将转移了石墨烯的衬底放入反应室中,并通入氨气,将反应室温度升高至900℃,反应室压力调为300mbar;

(3b)保持反应室压力不变,将反应室温度再升高至1100℃,并同时向反应室中通入氢气、氨气、镓源,这三种气体的流量分别为800-1000sccm、9600-10500sccm、230-260sccm,采用MOCVD的方法,在转移了石墨烯的衬底上生长1-3um的氮化镓;

(3d)将反应室温度降至室温后取出样品,得到生长在石墨烯上的氮化镓;

(4)剥离氮化镓外延层:

(4a)将热释胶带缓慢的粘附在氮化镓外延层上表面,均匀用力将粘有氮化镓外延层的胶带完整的从原衬底剥离;

(4b)使热释胶带粘有氮化镓的一面紧紧的贴附目标衬底上,将加热台升温至120℃,然后将目标衬底整体放置在加热台上,加热5分钟后,热释胶带发泡后失去黏性,胶带会自动脱离氮化镓表面;

(4c)用镊子将脱离后的胶带取下,氮化镓外延层留在目标衬底上,实现氮化镓外延层的剥离转移。

2.根据权利要求1所述的方法,其中(2a)中用匀胶机将PMMA旋涂均匀,是通过调整匀胶机的转速实现,即先将匀胶机的转速设为1000转/s的低速旋转30s,再提升转速至3000转/s旋转60s。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910544984.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top