[发明专利]一种提升片内嵌入金刚石氮化镓晶体管热输运能力的工艺方法在审

专利信息
申请号: 201910546087.5 申请日: 2019-06-23
公开(公告)号: CN110349924A 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 郭怀新;黄语恒;孔月婵;陈堂胜 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/373;H01L23/14;H01L21/04
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 陈鹏
地址: 210016 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 金刚石 氮化镓晶体管 嵌入 输运 形貌 刻蚀表面 刻蚀技术 高导热 散热区 衬底 制备 缓冲层材料 金刚石生长 界面热阻 控制表面 散热区域 引入 缓冲层 刻蚀 复合 生长
【权利要求书】:

1.一种提升片内嵌入金刚石氮化镓晶体管热输运能力的工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1、基于光刻、电镀、刻蚀技术实现片内衬底散热区域的前期图形;

步骤2、利用ICP分步刻蚀技术对片内衬底散热区内部刻蚀表面形貌;

步骤3、采用蒸发或溅射技术,引入高导热缓冲层材料进行刻蚀表面预生长;

步骤4、进行片内定向金刚石生长,实现其片内嵌入金刚石复合衬底的制备;

步骤5、最后进行氮化镓晶体管的制备。

2.根据权利要求1所述的提升片内嵌入金刚石氮化镓晶体管热输运能力的工艺方法,其特征在于,片内衬底散热区的刻蚀是采用ICP分步刻蚀控制其内部刻蚀表面形貌,其刻蚀表面的粗糙度小于15nm。

3.根据权利要求2所述的提升片内嵌入金刚石氮化镓晶体管热输运能力的工艺方法,其特征在于,所述ICP分步刻蚀是基于刻蚀速率和刻蚀气氛的调节,第一步刻蚀的速率控制在1um/min以内,第二步刻蚀的速率控制在0.2um/min以内,并引入气体含量5-10%的Ar气。

4.根据权利要求1所述的提升片内嵌入金刚石氮化镓晶体管热输运能力的工艺方法,其特征在于,引入高导热缓冲层材料进行刻蚀表面预生长厚度不超过15nm,其材料为SiN介质。

5.根据权利要求1或4所述的提升片内嵌入金刚石氮化镓晶体管热输运能力的工艺方法,其特征在于,高导热缓冲层热阻小于等于50m2K/GW。

6.根据权利要求1所述的提升片内嵌入金刚石氮化镓晶体管热输运能力的工艺方法,其特征在于,片内衬底为SiC、Si或蓝宝石。

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