[发明专利]一种调节光学谐振腔谐振频率的装置在审
| 申请号： | 201910547574.3 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN110277972A | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 金华伏安光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H03H3/02 | 分类号： | H03H3/02;H03H3/04;H03H9/02;H03H9/13;H03H9/17 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 322200 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学谐振腔 薄膜体声波谐振器 压电薄膜层 谐振频率 第一电极 加载电压 逆压电效应 有效折射率 第二电极 共振波长 光波产生 声波 折射率 波长 共振 | ||
【权利要求书】：
1.一种调节光学谐振腔谐振频率的装置，包括光学谐振腔（2），其特征在于：所述光学谐振腔（2）的上方设置有第一电极层（3），所述第一电极层（3）的上方设置有压电薄膜层（4），所述有压电薄膜层（4）上方设置有第二电极层（5）。
2.如权利要求1所述的调节光学谐振腔谐振频率的装置，其特征在于：所述光学谐振腔（2）的下方设置有波导层（1）。
3.如权利要求1所述的调节光学谐振腔谐振频率的装置，其特征在于：所述光学谐振腔（2）内填充有吸波材料。
4.如权利要求1所述的调节光学谐振腔谐振频率的装置，其特征在于：所述光学谐振腔（2）是由声光玻璃制成。
5.如权利要求1所述的调节光学谐振腔谐振频率的装置，其特征在于：所述第一电极层（3）、第二电极层（5）均是由金、银、铜中的任意一种制成。
6.如权利要求1所述的调节光学谐振腔谐振频率的装置，其特征在于：所述压电薄膜层（3）是由AlN、ZnO、LiNbO3或石英中的任意一种制成。
7.如权利要求1所述的调节光学谐振腔谐振频率的装置，其特征在于：所述压电薄膜层（3）的厚度是100nm～500nm。
8.如权利要求2所述的调节光学谐振腔谐振频率的装置，其特征在于：所述波导层（1）是由硅、锗、锗化硅中的一种或者多种构成。
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