[发明专利]一种缝隙耦合型微纳光学结构在审
| 申请号： | 201910547675.0 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN110243764A | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 中山科立特光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/19 | 分类号： | G01N21/19;G01N21/01;G02B5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528458 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属条 微纳光学 矩形孔 缝隙耦合 金属膜 垂直连接 圆二色性 电磁场 贵金属 耦合 入射光 手性 条边 平行 | ||
【权利要求书】：
1.一种缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，包括一金属膜，所述金属膜上设有不少于一个的矩形孔；所述每个矩形孔内均设有一L形结构；
所述L形结构包括第一金属条和第二金属条；所述第一金属条垂直连接于所述第二金属条一端；所述第一金属条与所述矩形孔的一条边平行；
所述L形结构由贵金属制成。
2.根据权利要求1所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述矩形孔呈矩形阵列排布于所述金属膜上。
3.根据权利要求1所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述第一金属条与所述矩形孔之间具有一第一间隙；所述第二金属条与所述矩形孔之间具有一第二间隙。
4.根据权利要求3所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述第一间隙与所述第二间隙相等。
5.根据权利要求3或4所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述第一间隙与所述第二间隙取值范围为10~50nm。
6.根据权利要求5所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述金属膜厚度的取值范围为20~100nm。
7.根据权利要求1所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述第一金属条与所述第二金属条长度不同。
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