[发明专利]一种铍材表面氮化钛膜层及其制备方法有效
申请号: | 201910549811.X | 申请日: | 2019-06-24 |
公开(公告)号: | CN110144555B | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 闫春和;崔砚;王长青;刘冰洋;腾海涛;肖健;齐岩;郭子忠 | 申请(专利权)人: | 北京航天控制仪器研究所 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/16;C23C14/06 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 张丽娜 |
地址: | 100854 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 表面 氮化 钛膜层 及其 制备 方法 | ||
1.一种铍材表面氮化钛膜层,其特征在于:该氮化钛膜层的材料为氮化钛,氮化钛膜层通过钛层与铍材表面连接;
该铍材表面氮化钛膜层的制备方法,步骤包括:
(1)对铍材工件进行表面处理;
(2)将步骤(1)中表面处理后的铍材工件放置到离子镀膜机的真空室内,对真空室抽真空至真空度不大于8×10-3Pa,然后开启离子镀膜机的加热装置对铍材工件进行加热,加热温度为200~250℃,加热时间为1-2h;
(3)对铍材工件进行离子轰击;
(4)在铍材工件表面沉积钛层;
(5)在步骤(4)得到的沉积有钛层的铍材工件表面沉积氮化钛层;
(6)对步骤(5)得到的沉积有钛层和氮化钛层的铍材工件进行后处理,得到表面由氮化钛膜层的铍材工件,得到的铍材工件上Ti层厚度为1-4微米,TiN层厚度为25-50微米,铍材工件表面上膜层硬度为HV2500-HV4000,载荷为100g,膜层结合力采用拉拔测试方法,结合强度不低于8kg/mm2,且膜层不脱落;
所述步骤(1)中,铍材工件的铍材符合GJB1539-1992,铍材工件为5~10毫米厚的平板,铍材工件还可以是直径为15~25毫米的半球;
所述步骤(1)中,对铍材工件进行表面处理的方法为:
第一步,对铍材工件进行机加工,然后进行抛光处理;
第二步,对第一步抛光处理后的铍材工件用120号航空汽油涮洗3次,然后使用丙酮进行超声清洗,最后使用无水乙醇进行超声清洗,在进行超声清洗时清洗溶剂完全浸没铍材工件,超声清洗频率为25~40kHz ,超声清洗时间为15~20min,超声清洗温度为35~50℃,超声清洗后的铍材工件使用吹风机风干备用;
所述的步骤(2)中,离子镀膜机中靶材为纯度99.98%的钛靶,离子镀膜机的工作气体为纯度高于99.999%V/V的高纯氩气和纯度高于99.999%V/V的高纯氮气,高纯氩气符合GB/T4842-2006;
所述的步骤(2)中,铍材工件放置到离子镀膜机的真空室内的位置为:铍材工件放置在距离靶材表面正前方25-30厘米处,安装区域为平行于靶材表面直径为30-35厘米的圆形区域内,平板状铍材工件的镀膜面平行于钛靶表面,平板状铍材工件的镀膜面与钛靶表面的夹角小于10度,半球状的铍材工件的轴线与靶材轴线夹角为85~90度;
所述的步骤(2)中,对铍材工件进行加热的方式为:采用电加热管烘烤加热;所述的步骤(3)中,对铍材工件进行离子轰击的方法为:当真空室的真空度不大于5×10-3Pa时,充入氩气,当真空室的真空度为5~8×10-2Pa时开启弧源进行离子轰击;弧源的弧电流为50~60安培,离子轰击的开始偏压为390-410伏,占空比为80%~90%,轰击保持时间为2.5-3.5min,然后偏压升至490-510伏,占空比为70%~80%,轰击保持时间为1.5-2.5min,偏压继续升至590-610伏,占空比为60%~70%,轰击保持时间为0.5-1.5min,中间连续操作,不灭弧;
所述的步骤(4)中,在铍材工件表面沉积钛层的方法为:离子轰击过程结束后,将偏压降低到290-310伏,占空比为70%-80%,弧电流为80~90安培,加大氩气通入量,至真空度达到1.0~1.6×10-1帕,保持时间为0.5-1.5min,然后将偏压继续降低到140-160伏,占空比为81%-90%,弧电流为80~90安培,真空度达到1.0~1.6×10-1帕,保持时间为1.5-2.5min;将偏压继续降低到90-110伏,占空比为91%-95%,弧电流为80~90安培,真空度为1.0~1.6×10-1帕,保持时间为9.5-10.5min;
所述的步骤(5)中,沉积氮化钛层的方法为:
第一步,设定弧电流为80~90安培,通入氮气,调整真空度至2.0~4.0×10-1帕,偏压为60~80伏,占空比为60%~80%,沉积时间为9.5-10.5min;
第二步,设定弧电流为100~110安培,继续通入氮气使真空度至2.0~4.0×10-1帕,偏压为60~80伏,占空比为60%~80%,沉积时间为14.5-15.5min;
第三步,设定弧电流为110~130安培,继续通入氮气使真空度保持为2.0~4.0×10-1帕,偏压为60~80伏,占空比为60%~80%,沉积时间为60~90min;
所述的步骤(6)中,后处理的方法为:沉积氮化钛工艺过程结束后,关闭弧电源,开启电加热管,对铍材工件进行烘烤处理,烘烤温度为320~350度,烘烤时间为1-1.5h,之后随炉冷却至室温,得到处理后的铍材工件。
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