[发明专利]一种偏光片、电子设备及偏光片的制备方法

说明书

本申请公开了一种偏光片、电子设备及偏光片的制备方法，所述偏光片包括：基膜，其一侧表面定义有第一区域以及围绕在所述第一区域周围的第二区域；线偏光膜，位于所述基膜的所述一侧表面，且覆盖所述第二区域；透明填充体，与所述线偏光膜同层设置，且覆盖所述第一区域；相位差膜，覆盖所述线偏光膜和所述透明填充体远离所述基膜一侧。通过上述方式，本申请能够较为简单的形成去偏光区域。

技术领域

本申请涉及电子设备技术领域，特别是涉及一种偏光片、电子设备及偏光片的制备方法。

背景技术

目前，电子设备(例如，手机、平板、电视等)对于屏幕边框的利用率要求越来越高；为实现全面屏效果，屏体摄像头概念应运而生。而为了降低电子设备中的金属层对外界环境光的反射，一般需要在屏体上设置偏光片，以降低金属层对外界环境光的反射，提高电子设备在强光下的对比度。

但是偏光片会造成屏体一侧设置的摄像头的透过率低，因此通常需要将对应于摄像头位置处的偏光片进行挖槽处理，以形成去偏光区域。

本申请的发明人在长期研究过程中发现，上述形成去偏光区域的做法较为繁琐；且后期偏光片与盖板等进行贴合时，光学胶OCA无法完全填充偏光片内挖槽形成的断差，进而会产生光学上的问题，以及可能会导致灰尘在此凹陷区域积累。

发明内容

本申请主要解决的技术问题是提供一种偏光片、电子设备及偏光片的制备方法，能够较为简单的形成去偏光区域。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种偏光片，包括：基膜，其一侧表面定义有第一区域以及围绕在所述第一区域周围的第二区域；线偏光膜，位于所述基膜的所述一侧表面，且覆盖所述第二区域；透明填充体，与所述线偏光膜同层设置，且覆盖所述第一区域；相位差膜，覆盖所述线偏光膜和所述透明填充体远离所述基膜的一侧。

其中，所述第一区域的所述基膜表面具有疏水性，所述第二区域的所述基膜表面具有亲水性，以使得所述线偏光膜仅覆盖所述第二区域。

其中，所述透明填充体和所述相位差膜材料相同。

其中，所述第一区域表面的水滴角为100°-120°，以使得所述透明填充体与所述第一区域的所述基膜连接。

其中，所述第一区域的所述基膜表面设置有接着剂，所述透明填充体通过所述接着剂与所述第一区域的所述基膜连接。

为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种电子设备，包括：显示层；相位差膜，位于所述显示层一侧；线偏光膜，位于所述相位差膜远离所述显示层一侧，且所述线偏光膜设置有开口；透明填充体，位于所述开口内；光学器件，位于所述显示层背对所述相位差膜一侧，且所述光学器件的感光区与所述开口位置对应。

为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种偏光片的制备方法，所述制备方法包括：在基膜一侧形成线偏光膜、透明填充体以及相位差膜；其中，所述基膜一侧表面定义有第一区域以及围绕在所述第一区域周围的第二区域；所述线偏光膜位于所述基膜的所述一侧表面，且覆盖所述第二区域；所述透明填充体与所述线偏光膜同层设置，且覆盖所述第一区域；所述相位差膜覆盖所述线偏光膜和所述透明填充体远离所述基膜一侧。

其中，所述在所述基膜一侧形成线偏光膜、透明填充体以及相位差膜之前，所述制备方法还包括：

对所述基膜的所述一侧表面进行处理，以使得所述基膜的所述第一区域的表面具有疏水性，所述第二区域的表面具有亲水性。

其中，所述在基膜一侧形成线偏光膜、透明填充体以及相位差膜，包括：

在所述基膜的所述一侧表面涂布线偏材料，所述线偏材料仅附着于所述第二区域的表面以形成所述线偏光膜；