[发明专利]铈铝铽稀土光稳定剂及其制备方法

说明书

本发明公开了一种铈铝铽稀土光稳定剂及其制备方法。本发明的铈铝铽稀土光稳定剂包括：15～65重量份的CeO₂，30～82重量份的Al₂O₃，0.1～10重量份的Tb₄O₇。本发明的铈铝铽稀土光稳定剂具有广谱紫外屏蔽功能，光稳定性优越，与有机高分子材料基体相容性好。

技术领域

本发明涉及一种光稳定剂及其制备方法，尤其涉及一种铈铝铽稀土光稳定剂及其制备方法。

背景技术

有机高分子材料由一种或几种分子或分子团以共价键结合形成的具有多个重复单体单元的大分子，其分子量高达10³～10⁸。它们可以是天然产物，如纤维、蛋白质和天然橡胶等；也可以是用合成方法制得的，如合成橡胶、合成树脂、合成纤维等非生物高聚物等。有机高分子材料的特点是种类多、密度小(仅为钢铁的1/7～1/8)，比强度大，电绝缘性、耐腐蚀性好，加工容易，可满足多种特种用途的要求。有机高分子材料包括塑料、纤维、橡胶、涂料、粘合剂等，可部分取代金属、非金属材料。但是，有机高分子材料在紫外光照射下容易出现变色、发脆、性能下降等现象。为了提高有机高分子材料的光稳定性，延长使用寿命，通常添加光稳定剂用以抑制和减弱光降解现象。

常用的光稳定剂可以分为有机光稳定剂和无机光稳定剂两大类。有机光稳定剂包括受阻胺类、二苯甲酮类、苯并三唑类、三嗪类、水杨酸酯类等。上述光稳定剂存在如下问题：一是有毒、易挥发、迁移和渗出，以及易被介质抽提等；二是有机光稳定剂本身即为有机高分子，其光稳定性不好，易于与有机高分子材料基体、其它填料或者环境发生反应，导致其光稳定性能失效。无机光稳定剂又称为光屏蔽剂，主要包括氧化铁、氧化铬、氧化铅、二氧化钛和氧化铽等，但是上述无机光稳定剂只在紫外区的某一波段屏蔽率高，而且与有机高分子基体的相容性差，分散不均匀，易导致有机高分子基体的力学性能下降。

由此，开发一种屏蔽紫外区大部分波段的紫外光、而且易于分散至机高分子基体中的广谱光稳定剂十分必要。

发明内容

有鉴于此，本发明的一个目的在于提供一种铈铝铽稀土光稳定剂，添加至有机高分子材料基体中，可屏蔽紫外光区大部分波段的紫外光，延长有机高分子材料的使用寿命。进一步地，本发明的光稳定剂可以均匀分散于有机高分子材料基体中，不影响有机高分子材料的力学性能。

本发明的另一个目的在于提供一种铈铝铽稀土光稳定剂的制备方法，可以稳定制备铈铝铽稀土光稳定剂。

本发明采用如下技术方案实现上述目的。

本发明提供一种铈铝铽稀土光稳定剂，包括如下组分：15～65重量份的CeO₂，30～82重量份的Al₂O₃，和0.1～10重量份的Tb₄O₇。本发明的稀土光稳定中铈元素、铽元素与铝元素的相互配合可以屏蔽紫外光区大部分波段的紫外光，光稳定性能更优越，而且更环保。

根据本发明的光稳定剂，优选地，所述光稳定剂包括如下组分：25～65重量份的CeO₂，30～70重量份的Al₂O₃，1～10重量份的Tb₄O₇，其中，CeO₂、Al2O₃和Tb₄O₇的粒度均小于1μm。采用上述范围内的光稳定剂，进一步提高光稳定性能。

根据本发明的光稳定剂，优选地，所述光稳定剂包括如下组分：25～30重量份的CeO₂，50～70重量份的Al₂O₃，1～5重量份的Tb₄O₇。采用上述范围内的光稳定剂，在进一步提高光稳定剂的光稳定性能的同时提高光稳定剂效率。