[发明专利]一种聚合型高分子空间位阻胺及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910552502.8 申请日: 2019-06-25
公开(公告)号: CN112126060B 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 安晶晶;陈炜;高勇年;李靖;刘罡 申请(专利权)人: 北京天罡助剂有限责任公司
主分类号: C08G73/06 分类号: C08G73/06;C08L23/12;C08L79/04
代理公司: 北京领科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11690 代理人: 张丹
地址: 102611 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 聚合 高分子 间位 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种聚合型高分子空间位阻胺,其通式Ⅰ如下:

其中,mn为2-20之间的整数;n为2-20之间的整数;A1、A2、A3、A4、A5、A6……An为相同或不同,所述A1、A2、A3、A4、A5、A6……An结构独立的选自以下结构;

所述通式Ⅰ的聚合型高分子空间位阻胺选自如下聚合形式:

其中,代表可聚合位点,且位点与位点聚合,当聚合物中聚合为AB时,形成线性聚合物;当聚合物中聚合为AB2时,形成超支化聚合物;

mn为2-20之间的整数;

R1、R2独立的选自氢或C1-C40烷基;R3为C4-C40亚烷基;R1、R2和R3中碳原子数的总和小于等于40;

R7、R8相同或不同,选自氢、C1-C20烷基;或者,R7、R8为亚乙基,R7、R8与R7和R8之间的N原子形成含氧环;

R4、R5独立的选自氢或C1-C40烷基;R6为C4-C40亚烷基;R4、R5和R6中碳原子数的总和小于等于40;

Q1、Q2、Q3为-NR22-或-O-,R22选自H或C4烷基;

所述R12、R13是聚合物的封端基团,所述R12、R13相同或不同,独立的选自氢、C4-C30烷基、

G1、G2为C1-C4烷基;E选自-CO-或-CH2-。

2.一种权利要求1所述的通式Ⅰ的聚合型高分子空间位阻胺的制备方法,包括将可聚合单体溶于溶剂或升温至熔融状态,依次加入催化剂和氢过氧化物,反应生成通式Ⅰ所述的聚合型高分子空间位阻胺,所述可聚合单体结构通式如下所示:

或者

其中,

R和R’相同或不同,选自氢或C4-C40烷基;

所述溶剂是二氯苯、氯苯、甲苯、卤代烃、甲醇、乙醇、乙二醇、甲醚或水;

所述催化剂为金属化合物,所述的金属化合物选自乙酰丙酮氧钒、乙酰丙酮钒、羰基钴、氧化铬、钛酸正丁酯、钛酸异丙酯、六羰基钼、三氧化钼、五氧化钒、三氧化铬和/或三氧化钨。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述氢过氧化物是无机氢过氧化物或有机氢过氧化物,所述的无机氢过氧化物是H2O2;所述的有机氢过氧化物是烷基氢过氧化物和芳基氢过氧化物。

4.一种权利要求1所述的通式为Ⅰ的聚合型高分子空间位阻胺作为稳定剂和/或阻燃剂的用途。

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