[发明专利]微流控器件及制作方法、生物分子数量检测方法及系统有效

专利信息
申请号: 201910553499.1 申请日: 2019-06-25
公开(公告)号: CN110227565B 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 孙拓 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00;G01N15/10
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 付生辉
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 微流控 器件 制作方法 生物 分子 数量 检测 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种微流控器件,其特征在于,包括

玻璃衬底;

形成在所述玻璃衬底上的沿第一方向排列的多个第一金属条;

沿所述第一方向延伸的光刻胶体,覆盖所述多个第一金属条,露出每个第一金属条的首端和尾端;

形成在所述光刻胶体中沿所述第一方向延伸的流道空腔;

形成在所述光刻胶体上的沿所述第一方向排列的多个第二金属条,所述第二金属条沿所述光刻胶体侧壁向所述玻璃衬底方向延伸形成各自的首端和尾端,其中多个第一金属条和第二金属条通过沿特定的方向和角度延伸且彼此首尾相连从而所述多个第一金属条和第二金属条围绕流道空腔构成空心电感结构;

形成在所述光刻胶体的沿所述第一方向的两端的进液口和出液口,与所述流道空腔液体连通。

2.根据权利要求1所述的器件,其特征在于,

第1个第二金属条的首端作为所述空心电感结构的第一电极,第n个第二金属条的尾端与第n个第一金属条的首端电连接,第n个第一金属条的尾端与第(n+1)个第二金属条的首端电连接,所述第N个第二金属条的尾端与所述第N个第一金属条的首端电连接,所述第N个第一金属条的尾端作为所述空心电感结构的第二电极,

其中,N、n为自然数,且1≤n≤N-1。

3.根据权利要求1或2所述的器件,其特征在于,

所述多个第一金属条均沿第二方向延伸;

所述多个第二金属条均沿第三方向延伸,

其中所述第二方向和第三方向夹角为锐角。

4.一种微流控器件的制作方法,其特征在于,包括:

在玻璃衬底上形成沿第一方向排列的多个彼此电绝缘的第一金属条;

形成沿所述第一方向延伸的光刻胶体,覆盖所述多个第一金属条,露出每个第一金属条的首端和尾端;

对所述光刻胶体中预形成流道空腔的位置进行曝光;

形成牺牲胶体,覆盖所述光刻胶体和露出的每个第一金属条的首端和尾端;

对覆盖每个第一金属条的首端和尾端位置处的牺牲胶体以及所述光刻胶体的沿所述第一方向的两端预形成进液口和出液口位置处的牺牲胶体进行曝光显影,以露出每个第一金属条的首端和尾端并形成进液口和出液口;

在所述牺牲胶体上形成沿所述第一方向排列的多个彼此电绝缘的第二金属条,所述第二金属条沿所述牺牲胶体侧壁向所述玻璃衬底方向延伸形成各自的首端和尾端,所述第二金属条的首端和尾端与延伸到的对应第一金属条的首端和尾端电连接;

对经过曝光的预形成流道空腔的位置处的光刻胶体进行显影,以形成沿所述第一方向延伸的流道空腔,其中所述多个第一金属条和第二金属条通过沿特定的方向和角度延伸且彼此首尾相连从而围绕流道空腔构成空心电感结构。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,对所述光刻胶体和牺牲胶体采用不同显影液进行显影。

6.一种微流控器件的制作方法,其特征在于,包括:

在玻璃衬底上形成沿第一方向排列的多个彼此电绝缘的第一金属条;

形成沿所述第一方向延伸的光刻胶体,覆盖所述多个第一金属条,露出每个第一金属条的首端和尾端;

对所述光刻胶体中预形成流道空腔的位置进行曝光显影,形成沿所述第一方向延伸的流道空腔;

在所述流道空腔中形成图案化金属膜;

形成牺牲胶体,覆盖所述光刻胶体和露出的每个第一金属条的首端和尾端;

对覆盖每个第一金属条的首端和尾端位置处的牺牲胶体以及所述光刻胶体的沿所述第一方向的两端预形成进液口和出液口位置处的牺牲胶体进行曝光显影,以露出每个第一金属条的首端和尾端并形成进液口和出液口;

在所述牺牲胶体上形成沿所述第一方向排列的多个彼此电绝缘的第二金属条,所述第二金属条沿所述光刻胶体侧壁向所述玻璃衬底方向延伸形成各自的首端和尾端,所述第二金属条的首端和尾端与延伸到的对应第一金属条的首端和尾端电连接,所述多个第一金属条和第二金属条通过沿特定的方向和角度延伸且彼此首尾相连从而围绕流道空腔构成空心电感结构。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,对所述光刻胶体和牺牲胶体采用不同显影液进行显影。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910553499.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top