[发明专利]显示背板及其制作方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201910553502.X 申请日: 2019-06-25
公开(公告)号: CN110246883B 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 杨明;王灿;杨盛际;丛宁;张粲 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 背板 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种制作显示背板的方法,其特征在于,所述显示背板包括:

衬底;

多个子像素,多个所述子像素周期性分布在所述衬底的第一表面上,每个子像素分布周期包括N个成行或者成列分布的所述子像素,N个所述子像素的微腔腔长不完全相同,且N个所述子像素中微腔腔长最大的子像素和N个所述子像素中微腔腔长最小的子像素不相邻,N为大于或等于3的正整数,

一个所述子像素包括:

第一电极,所述第一电极设置在所述第一表面上;

反射层,所述反射层设置在所述第一电极远离所述衬底的一侧;

腔长调节层,所述腔长调节层设置在所述反射层远离所述衬底的一侧,且所述腔长调节层中设有通孔;

第二电极,所述第二电极设置在所述腔长调节层远离所述衬底的一侧,且所述第二电极通过所述通孔与所述反射层电连接;

发光功能层,所述发光功能层设置在所述第二电极远离所述衬底的一侧;

第三电极,所述第三电极设置在所述发光功能层远离所述衬底的一侧,

制作所述显示背板的方法,包括:在所述衬底的所述第一表面上形成多个呈周期性分布的所述子像素,其中,所述子像素的形成步骤包括:

在所述第一表面上形成所述第一电极;

在所述第一电极远离所述衬底的一侧形成所述反射层;

在所述反射层远离所述衬底的一侧形成所述腔长调节层;

在所述腔长调节层远离所述衬底的一侧形成所述第二电极,且所述第二电极与所述反射层电连接;

在所述第二电极远离所述衬底的一侧形成所述发光功能层;

在所述发光功能层远离所述衬底的一侧形成所述第三电极,

其中,在多个所述子像素分布的行或者列的方向上,定义依次分布的N个所述子像素分别为子像素1、子像素2、……、子像素N-1、子像素N,其中N为奇数,N个所述子像素中的所述腔长调节层是通过以下步骤形成的:

步骤1、在N个所述反射层远离所述衬底的一侧形成整层介质层;

步骤2、对所述介质层远离所述衬底的表面进行第一次刻蚀,所述第一次刻蚀的区域在所述衬底上的正投影覆盖所述子像素1+i至所述子像素N-i在所述衬底上的正投影;

步骤3、对经过所述第一次刻蚀的所述介质层的部分表面进行第二次刻蚀,所述第二次刻蚀的区域在所述衬底上的正投影覆盖所述子像素1+i至所述子像素N-i在所述衬底上的正投影;

步骤4:重复步骤3,直至1+i=N-i,

其中,i等于刻蚀次数。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,每个所述子像素分布周期包括奇数个所述子像素,在所述奇数个所述子像素的分布方向上,所述子像素的微腔腔长从中间向两侧逐渐增大或者逐渐减小。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,每个所述子像素分布周期包括依次分布的第一子像素、第二子像素、第三子像素、第二子像素和第一子像素,且所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素的颜色不同。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,一个所述第三子像素的发光面积大于一个所述第一子像素的发光面积,且一个所述第三子像素的发光面积大于一个所述第二子像素的发光面积。

5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第一子像素为红色子像素,所述第二子像素为绿色子像素,所述第三子像素为蓝色子像素。

6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第一子像素为蓝色子像素,所述第二子像素为绿色子像素,所述第三子像素为红色子像素。

7.一种显示装置,其特征在于,包括由权利要求1~6中任一项所述方法制作得到的显示背板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910553502.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top