[发明专利]一种梯形增亮膜及其制备方法在审
申请号: | 201910554707.X | 申请日: | 2019-06-25 |
公开(公告)号: | CN111435177A | 公开(公告)日: | 2020-07-21 |
发明(设计)人: | 李刚;夏寅;缪锴;郭俊超;任远飞;薛永富;唐海江;张彦 | 申请(专利权)人: | 宁波激智科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G02F1/13357 |
代理公司: | 北京策略律师事务所 11546 | 代理人: | 张华 |
地址: | 315040 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 梯形 增亮膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种梯形增亮膜,其特征在于,所述梯形增亮膜包括基材层和结构层,所述结构层置于基材层之上,所述结构层包括若干个梯形四棱柱,所述梯形四棱柱紧密排列。
2.根据权利要求书1所述的梯形增亮膜,其特征在于,所述梯形四棱柱的横截面是梯形,所述梯形四棱柱的上表面为平台区域,所述平台区域平整光滑,梯形的侧边均限制在下底正上方除上底的空间内,不会阻挡平台区域的准直光透过,所述梯形四棱柱的底面始终互相平行且纵剖面始终互相平行;
所述梯形的两个侧边虚拟斜向延长线在平台上方具有虚拟交点,该虚拟交点与平台构成虚拟三角形,以该虚拟交点在平台上的垂足对底边作垂线,即梯形的垂心高;所述梯形四棱柱的底面和纵剖面分别由横截面梯形的下底边和垂心高朝梯形四棱柱纵深方向无限延伸形成;所述梯形四棱柱的脊面由横截面梯形的上底朝梯形四棱柱纵深方向无限延伸形成,所述脊线由所述脊面在纵剖面上的投影形成。
3.根据权利要求书1所述的梯形增亮膜,其特征在于,所述单个梯形四棱柱左右两个斜面与纵剖面的夹角,即横截面梯形左右斜边与垂心高的夹角,分别为α、β,α、β均为15~75°;α与β的和构成虚拟三角形的顶角θ,θ为30~150°。
4.根据权利要求书1所述的梯形增亮膜,其特征在于,所述单个梯形四棱柱的垂心高H为5~100μm;不同梯形四棱柱的垂心高可以相同或不同。
5.根据权利要求书1所述的梯形增亮膜,其特征在于,所述单个梯形四棱柱的左侧侧边投影为Wa,Wa=tan(α)×H,右侧侧边投影为Wb,Wb=tan(β)×H;
所述虚拟三角形的高为G,G可视作H的垂直延长线,垂直延长倍率为t,G=t×H,t的取值范围为[0.01,100];所述单个梯形四棱柱的平台宽度为L,纵剖面左侧平台La=tan(α)×G=tan(α)×H×t=Wa×t,纵剖面右侧平台Lb=tan(β)×G=tan(β)×H×t=Wb×t,L=La+Lb=(Wa+Wb)×t;不同梯形四棱柱的平台宽度L可以相同或不同;
所述单个梯形四棱柱的宽度为单个横截面梯形的底边长度W,为梯形四棱柱纵剖面左侧的La、Wa与右侧的Lb、Wb相加所得,W=Wa+Wb+La+Lb=(Wa+Wb)×(1+t);所述梯形四棱柱的水平距离P为相邻梯形四棱柱的纵剖面距离,为左梯形四棱柱纵剖面右侧的Lb、Wb与右梯形四棱柱纵剖面左侧的La、Wa相加所得,在梯形四棱柱结构相同的情况下,P=Wa+Wb+La+Lb=W。
6.根据权利要求书2所述的梯形增亮膜,其特征在于,所述平台区域的表面粗糙度Ra≤250nm。
7.根据权利要求书1所述的梯形增亮膜,其特征在于,所述脊线在侧视图上的形态选自直线、折线、曲线中的一种或至少两种的组合;所述脊线的振幅A’选自±[0,2]μm。
8.根据权利要求书1所述的梯形增亮膜,其特征在于,所述梯形四棱柱纵剖面在基材层上的投影为直线A,所述基材端面在基材层上的投影为直线B,直线A和直线B的夹角称为结构层的错位角错位角选自0~90°。
9.一种根据权利要求1-8中任一项所述的梯形增亮膜的制备方法,其特征在于,所述方法包含下述步骤:
(1)将梯形刀具和模具打磨、抛光至表面平整光滑,再按照梯形四棱柱结构、排列方式以及纵深方向雕刻出互补结构的模具;
(2)在模具与基材之间填充聚合物树脂,通过成型、脱模,微复制出在基材层上的结构层,获得准直光可透过的梯形增亮膜。
10.一种背光模组,其特征在于,所述背光模组包含反射膜、导光板、下扩散膜和增亮膜,所述增亮膜选自权利要求1-8中任一项所述的增亮膜片材或片材的组合;所述增亮膜片材的组合包括A片材或B片材,A片材的裁切角A选自0~90°,B片材的裁切角B选自90~180°;所述增亮膜片材组合为所述A片材和/或B片材中的至少两张以上的组合。
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