[发明专利]一种碳化物基金属陶瓷研磨膏及其制备方法和应用方法

说明书

本发明公开了一种碳化物基金属陶瓷研磨膏及其制备方法，属于刀具抛光领域，旨在提供一种抛光速度快、抛光表面光滑、分散性好、易于清洗的刀具研磨膏，其技术方案要点如下，按照质量份数计算，包括如下组分：碳化物基金属陶瓷粉60~70份，分散剂10~15份，填料5~10份，非离子表面活性剂20~30份，润滑剂10~20份，氧化聚乙烯蜡微粉1~5份；填料是钒钛磁铁矿粉、钙钛矿粉或蛭石粉中的一种。用于刀具加工的抛光工艺中，能够有效提高抛光效率，使刀具表面更为光滑。

技术领域

本发明涉及刀具抛光领域，具体涉及一种碳化物基金属陶瓷研磨膏及其制备方法。

背景技术

现有技术中的刀具研磨膏分为油溶研磨膏和水溶研磨膏两大类。其中，油溶类研磨膏具有润湿性好，抛光力小、抛光热低的优点，主要用于加工光洁度高的硬质合金等高硬合金材料的零件，仪器仪表、量具、刃具、磨具等，但是该类研磨膏的抛光速度慢，且不易清洗；水溶研磨膏粘度小，易排削、加工效率高，主要用于加工稍腐蚀金属，线路板，玻璃、陶瓷、宝石、玛瑙等非金属硬脆材料制品，虽然具有抛光速度快的优点，但是打磨面不够光滑，容易给抛光件表面造成划痕。常用的研磨膏主要有刚玉类、碳化硅和碳化硼类、氧 化铬类、金刚石类等不同类型的研磨膏。随着现代各领域的不断发展，研磨膏的需求也是日益增强，研磨膏具有耐磨耐用的经济效应，但目前的研磨效果尚未发展到理想的状态，表面粗糙度达不到技术要求，抛光速度慢、成品率低。现有研磨膏微粉分散特性差，主要研磨材料的微观几何形态不理想，研磨材料微粒的粒度尺寸范围过宽，组分润滑特性不好，使得材料在研磨抛光后表面质量不理想，很难达到质量要求，研磨出的产品合格率低。大多数研磨膏和研磨液虽然能增强研磨效果，但在使用时易损坏刀具。另外由于研磨液属于液态形式，容易造成使用浪费，从而增加生产成本；且现有的研磨膏都不能很好地与基质粘结，导致研磨膏在研磨抛光过程中发生脱落，降低研磨膏的利用率。

发明内容

本发明的目的是提供一种抛光速度快、抛光表面光滑、分散性好、易于清洗的刀具研磨膏。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种碳化物基金属陶瓷研磨膏，按照质量份数计算，包括如下组分：碳化物基金属陶瓷粉60~70份，分散剂10~15份，填料5~10份，非离子表面活性剂20~30份，润滑剂10~20份，氧化聚乙烯蜡微粉1~5份；所述填料是钒钛磁铁矿粉、钙钛矿粉或蛭石粉中的一种。本发明中采用碳化物基金属陶瓷粉作为研磨剂，具有高硬度、高熔点、高热稳定性的优点，能够适应不同种类的抛光件的不同抛光要求；本发明采用钒钛磁铁矿粉作为填料，具有助磨剂的作用，且在加工金属抛光件时，能够通过磁性增加抛光力度，从而提高抛光效率；采用钙钛矿粉或蛭石粉作为填料，同样起到助磨剂的作用，且由于其粒径小，颗粒圆润，能够有效保护抛光工件表面不被划伤，使抛光工件表面更加光滑。

进一步的，润滑剂，按照质量分数计算，包括如下组分：丙烯酸酯软单体13~18份、丙烯酸酯硬单体18~25份、硅油30~45份、羟基聚二甲基硅烷5~10份。本发明提供的润滑剂中，硅油和羟基聚二甲基硅烷以及丙烯酸酯的配合使用，能够形成微观结构为三维空间网状的油膜，有效减少静电的产生，防止抛光过程中静电场吸附周围的灰尘、小颗粒等造成抛光工件的损伤，使抛光表面更加光滑，且三维空间网状结构具有耐高温、耐磨、抗腐蚀的优点，提高本发明的研磨膏的使用寿命。

进一步的，非离子表面活性剂是壬基酚聚氧乙烯醚硫酸铵或烷基醇聚醚琥珀酸单酯磺酸钠中的任意一种。本发明提供的非离子表面活性剂既含有亲水基团又含有亲油基团，它具有润湿、乳化、起泡等多种功能，使本发明提供的研磨膏具有易于清洗的优点，同时，非离子表面活性剂与本发明提供的润滑剂配合使用，增强了润滑剂的分散性，使本发明提供的研磨膏不会产生沉淀，方便取用。

进一步的，硅油是氨基改性硅油、环氧基改性硅油、聚醚改性硅油或甲基含氢硅油中的任意一种。