[发明专利]湿空气生成装置、湿空气制备装置、方法以及光刻机

说明书

本发明提供一种湿空气生成装置、湿空气制备装置、方法以及光刻机。所述湿空气制备装置包括供水装置、供气装置、湿空气生成装置和输出装置，所述供水装置用于给所述湿空气生成装置提供液态的预制水，所述供气装置用于给所述湿空气生成装置提供预制空气，所述湿空气生成装置用于混合预制水和预制空气以生成湿空气，所述输出装置用于排出所述湿空气生成装置中的湿空气。本发明中的湿空气制备装置利用液态的预制水在毛细管束组件中的毛细现象制备湿空气。由于液态的预制水在毛细管束组件中发生毛细现象，因此，可通过毛细管束组件增加液态的预制水的液面的面积，从而可增加液态的预制水的蒸发效率，进而提高湿空气的制备效率。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种湿空气生成装置、湿空气制备装置、方法以及光刻机。

背景技术

现代光刻设备以光学光刻为基础，它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影曝光到涂有光刻胶的衬底上，所述衬底通常为硅片。浸没式光刻是指在曝光镜头与衬底之间充满浸没液体(或者水)，通过曝光镜头与衬底之间充满的浸没液体取代传统干式光刻技术中对应位置处的空气。由于浸没液体的折射率比空气大，这就使得透镜组数值孔径大，进而可获得更小的特征线宽，提高光刻设备的光刻精度。

在浸没式光刻设备中，硅片表面以及硅片附件的浸没液体存在蒸发制冷的现象，特定区域如测量光路存在抗干扰能力差的问题，通常需要向这些区域提供超洁净湿空气(XCHA，eXtreme Clean HumidifiedAir)，减缓硅片表面以及硅片附件的浸没液体的蒸发制冷，或者增大测量光路上气体的比热熔进而增强抗干扰性能。

现有的浸没式光刻设备中，通常通过湿空气制备装置提供超洁净湿空气，然而，这些湿空气制备装置通常存在湿空气制备效率低的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种湿空气生成装置、湿空气制备装置、方法以及光刻机，以解决现有的湿空气制备装置的湿空气制备效率低的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种湿空气生成装置，包括加湿腔体、毛细管束组件和水槽，所述水槽设置在所述加湿腔体内，所述水槽中设置有液态的预制水，所述毛细管束组件设置在所述水槽中，所述毛细管束组件用于将所述水槽中液态的预制水转换为气态的预制水；或者，包括加湿腔体和毛细管束组件，所述加湿腔体中设置有液态的预制水，所述毛细管束组件设置在所述加湿腔体中，所述毛细管束组件用于将所述加湿腔体中液态的预制水转换为气态的预制水。

可选的，所述毛细管束组件包括至少一个毛细管，所述毛细管包括管体、相互连通的进水口和出水口，所述进水口浸没在液态的预制水的液面下方，所述出水口设置在液态的预制水的液面上方。

可选的，所述毛细管束组件中的所述毛细管呈蜂窝状布置。

可选的，所述毛细管的出水口与所述预制水的液面之间的距离一致，所述毛细管的进水口高于所述水槽或者所述加湿腔体的底面。

可选的，所述毛细管出水口处一侧的管壁的边沿与所述液面的距离大于另一侧的管壁的边沿与所述液面的距离。

可选的，所述毛细管出水口处的管壁的边沿中，与毛细管内的液面距离较大的一侧的管壁在毛细管轴向上的截面呈“C”型。

本发明还提供一种湿空气制备装置，包括供水装置、供气装置、湿空气生成装置和输出装置，所述供水装置用于给所述湿空气生成装置提供液态的预制水，所述供气装置用于给所述湿空气生成装置提供预制空气，所述湿空气生成装置用于混合预制水和预制空气以生成湿空气，所述输出装置用于排出所述湿空气生成装置中的湿空气。

可选的，所述湿空气生成装置包括加湿腔体、毛细管束组件和水槽，所述水槽设置在所述加湿腔体内，所述供水装置用于给所述水槽提供液态的预制水，所述毛细管束组件设置在所述水槽中，所述毛细管束组件用于将所述水槽中液态的预制水转换为气态的预制水，所述供气装置用于向所述加湿腔体内提供预制空气，所述输出装置用于排出所述加湿腔体中的空气。